[发明专利]用于改善自由基浓度的侧面注入设计

权利要求书

1.一种用于基板处理系统的腔室入口组件，包括：

腔室入口；

用于输送管线的外部耦接件；

用于处理腔室的处理区域的内部耦接件，其中所述腔室入口和所述外部耦接件的横截面面积增加以降低至所述输送管线的背压，并且其中所述内部耦接件和所述外部耦接件分别在所述腔室入口的内端和外端上，其中：

所述内部耦接件的横截面面积大于所述外部耦接件的横截面面积，

腔室入口纵轴，所述腔室入口纵轴从所述处理区域的中心穿过所述内端并延伸到所述外端，并且

所述外端相对于所述腔室入口纵轴不对称；

纵向剖面，所述纵向剖面包含所述内端和所述外端以及第一边和第二边，所述第一边和所述第二边位于所述腔室入口的相对侧上，其中所述纵向剖面的形状包含以下各者中的至少一个：三角形、修改式三角形、梯形、修改式梯形、矩形、修改式矩形、菱形和修改式菱形；和

盒，所述盒包含所述腔室入口并经配置以设置到所述处理腔室的侧壁中。

2.如权利要求1所述的腔室入口组件，其中：

输送管线纵轴，所述输送管线纵轴与所述输送管线平行，所述输送管线纵轴从所述输送管线延伸并穿过所述外部耦接件，并且

所述腔室入口纵轴与所述输送管线纵轴成10度至70度之间的角度。

3.如权利要求2所述的腔室入口组件，其中如果所述输送管线纵轴与所述第一边相交，那么所述输送管线纵轴在接近所述内端的一点处与所述第一边相交。

4.如权利要求1所述的腔室入口组件，其中所述第一边是弯曲的。

5.如权利要求4所述的腔室入口组件，其中当所述第一边接近所述内部耦接件时，所述第一边与所述外部耦接件处的所述输送管线对齐，且朝向所述第二边弯曲。

6.如权利要求1所述的腔室入口组件，其中所述第一边是直的且与所述输送管线的内壁对齐。

7.如权利要求1所述的腔室入口组件，其中所述第一边是直的且与所述输送管线的内壁形成小于180°的角度。

8.如权利要求1所述的腔室入口组件，其中所述外部耦接件的长度小于所述外端的长度。

9.一种用于基板处理系统的输送管线的入口构件，包括：

第一端，所述第一端用于耦接到所述输送管线的安装套管；

第二端，所述第二端用于耦接到处理腔室；和

入口通道，所述入口通道从所述第一端延伸到所述第二端，其中：

所述入口通道包含靠近所述第一端的圆柱形部分，

所述入口通道包含靠近所述第二端的锥形部分，并且

在所述第一端处的第一横截面面积小于在所述第二端处的第二横截面面积，

其中所述入口构件的内部横截面面积增加以降低至所述输送管线的背压。

10.如权利要求9所述的入口构件，其中内部横截面面积从所述入口通道的所述第一端往所述入口通道的所述第二端单调地增加。

11.如权利要求9所述的入口构件，其中所述入口通道的内壁包括所述圆柱形部分过渡到所述锥形部分的角度。

12.如权利要求9所述的入口构件，其中第二横截面区域的形状包括以下各者中的至少一个：卵形、椭圆形、长椭圆形、体育场形、圆角矩形、不对称形和不规则形。