[发明专利]包含光敏部分的嵌段共聚物

权利要求书

1.一种嵌段共聚物，包含第一聚合物链段、第二聚合物链段和第三聚合物链段，

其中所述嵌段共聚物具有所述第一聚合物链段、所述第二聚合物链段和所述第三聚合物链段共价键合至一个连接点同时共用所述连接点的星形结构，

将所述第一聚合物链段、所述第二聚合物链段和所述第三聚合物链段中的至少一个聚合物链段连接至所述连接点的连接基团为可断裂连接基团，

其中所述第一聚合物链段至所述第三聚合物链段中的任一者包含乙烯基吡啶单元，并且另外两个链段包含苯乙烯单元，以及

其中所述可断裂连接基团包含2-硝基苄基、香豆素基或芘基烷基。

2.根据权利要求1所述的嵌段共聚物，其中在包含苯乙烯单元的两个链段中，组成单体单元的50％或更多彼此相同，并且相应链段中的相同单体的差异在20重量％以内。

3.根据权利要求1所述的嵌段共聚物，其中在包含苯乙烯单元的两个链段中，各聚合物链段的溶解度参数的偏差在10％以内。

4.根据权利要求1所述的嵌段共聚物，其中包含苯乙烯单元的两个链段中的任一者通过所述可断裂连接基团连接至所述连接点。

5.根据权利要求1所述的嵌段共聚物，其中数均分子量在1000至1000000的范围内。

6.根据权利要求1所述的嵌段共聚物，其中分子量分布在1.01至2的范围内。

7.一种聚合物膜，包含根据权利要求1所述的嵌段共聚物，其中，所述嵌段共聚物是自组装的。

8.根据权利要求7所述的聚合物膜，其中同时存在选自以下的两个或更多个相分离结构：球状结构、柱状结构、螺旋状结构和层状结构。

9.根据权利要求7所述的聚合物膜，其中所述嵌段共聚物中的所述第一聚合物链段至所述第三聚合物链段中的一个链段在断裂状态下与包含另外两个链段的嵌段共聚物混合。

10.根据权利要求9所述的聚合物膜，其中在所述断裂状态下的聚合物链段包含苯乙烯单元。

11.一种用于在基底上形成聚合物膜的方法，所述聚合物膜包含根据权利要求1所述的嵌段共聚物，其中所述嵌段共聚物是自组装的，所述方法包括以下步骤：

使用根据权利要求1所述的嵌段共聚物实现第一相分离结构；以及使实现所述第一相分离结构的所述嵌段共聚物的可断裂连接基团断裂，

其中在断裂步骤之后，在所述聚合物膜中形成与所述第一相分离结构不同的第二相分离结构。

12.根据权利要求11所述的用于在基底上形成聚合物膜的方法，其中所述第一相分离结构包括球状结构，以及所述第二相分离结构包括柱状结构。