[发明专利]通过脉冲或轮廓点加热执行的外延（EPI）厚度调节

权利要求书

1.一种处理腔室，包含：

用于处理容积的外壳；

在该外壳内的可旋转支撑件，该可旋转支撑件具有延伸到该外壳的外部的轴；

设置在该轴上并位于该外壳的外部的一个或多个信号特征；

在该外壳内的能量模块，其中该轴延伸通过该能量模块；

耦合到该外壳的一个或多个定向能量源；及

邻近该信号特征定位的一个或多个信号器，每个信号器对应于该定向能量源中的至少一个。

2.如权利要求1所述的处理腔室，其中该一个或多个信号特征中的每一个是一个或多个反射表面，并且对应的信号器包括照明器和光接收器。

3.如权利要求2所述的处理腔室，其中该照明器是激光器，并且该光接收器是光电二极管电路。

4.如权利要求1所述的处理腔室，其中该一个或多个定向能量源包括准直器、激光器和电源，该准直器附接到该外壳中的开口，该激光器光纤耦合到该准直器，该电源耦合到该激光器。

5.如权利要求4所述的处理腔室，其中该一个或多个信号特征耦合到该电源。

6.如权利要求4所述的处理腔室，其中该一个或多个信号特征中的每一个是从该轴延伸的突起，并且该一个或多个信号器包括物理开关，该物理开关被定位为当该可旋转支撑件旋转时接触该突起。

7.如权利要求6所述的处理腔室，其中该物理开关使该电源通电。

8.如权利要求1所述的处理腔室，其中该一个或多个信号特征包含在该轴上的多个反射条带。

9.如权利要求8所述的处理腔室，进一步包含耦合到该可旋转支撑件的多个提升销，每个提升销位于角位置处，并且该反射条带位于该轴上且位于该提升销的该角位置处。

10.如权利要求1所述的处理腔室，其中该一个或多个定向能量源是多个定向能量源，该一个或多个信号器是多个信号器，并且每个信号器耦合到该一个或多个定向能量源中的对应的一个。

11.如权利要求10所述的处理腔室，其中该一个或多个信号特征中的每一个包括多个信号元件，并且该一个或多个信号器中的每一个被定位为邻近对应的信号元件。

12.一种处理腔室，包含：

用于处理容积的一外壳；

在该外壳内的可旋转支撑件，该可旋转支撑件具有延伸到该外壳的外部的轴；

在该外壳内的能量模块，其中该轴延伸通过该能量模块；

耦合到该轴的旋转致动器；

耦合到该外壳的定向能量源；

耦合到该旋转致动器和该定向能量源的控制器，该控制器被配置为使该可旋转支撑件的旋转与该定向能量源的操作同步；

耦合到该控制器的信号器；及

多个信号特征，该多个信号特征设置在该轴上并且被分组为多个组，该多个信号特征中的每一个操作地耦合到该信号器。

13.如权利要求12所述的处理腔室，其中该定向能量源包括耦合到电源的辐射源，并且该控制器被配置为使该电源通电。

14.如权利要求13所述的处理腔室，其中该辐射源是激光器。

15.如权利要求14所述的处理腔室，其中该激光器光纤耦合到准直器，该激光器耦合到该外壳。

16.如权利要求12所述的处理腔室，其中该控制器被配置为基于由于该处理腔室的操作所导致的系统处理不均匀性来使该可旋转支撑件的旋转与该定向能量源的操作同步。