[发明专利]信息处理装置和信息处理方法在审
申请号: | 201980011183.8 | 申请日: | 2019-01-25 |
公开(公告)号: | CN111670574A | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | 田原都梦;小林直树;胜木祐伍 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | H04N5/74 | 分类号: | H04N5/74 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 康建峰;杜诚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 信息处理 装置 方法 | ||
本公开内容涉及能够减少图像投影校正的精度下降的信息处理装置和方法。通过使用采用了fθ透镜的失真系数的图像投影模型来执行对用于投影图像的投影部和用于捕获图像被投影到的投影面的成像部的姿势估计,该fθ透镜的入射光的像高度由焦距f与入射光的入射角θ的乘积表示。本公开内容可以应用于例如信息处理装置、投影装置、成像装置、投影成像装置、投影成像控制装置、图像投影成像系统等。
技术领域
本公开内容涉及信息处理装置和信息处理方法。更具体地,本公开内容涉及用于抑制图像投影校正的精度降低的信息处理装置和信息处理方法。
背景技术
迄今为止,已经存在用于通过使用投影仪-摄像装置系统来测量三维形状的投影校正技术。代表这些技术的一些方法涉及三维测量投影面(屏幕)的形状,并且基于关于测量的信息对其上的投影图像进行几何校正。为了测量三维形状,有必要估计(校准)两种类型的参数:指示投影仪和摄像装置的各个特性的内部参数(例如,焦距、主点和镜头失真系数);以及代表投影仪和摄像装置相对于彼此的位置和姿势的外部参数。
例如,已经存在下述方法:预先校准投影仪和摄像装置的内部变量或外部变量,基于关于在装置被配置之后获得的关于测量的信息来校准其他变量(例如,参见专利文献1和专利文献2)。
已经通过使用在普通投影仪中采用的通常所谓的ftanθ透镜系统来预测上述通过使用投影仪-摄像装置系统来测量三维形状的投影校正技术。在使用具有ftanθ透镜的投影仪的投影仪-摄像装置系统进行投影校正的情况下,与由内部参数和外部参数引起的效果相比,投影仪中的透镜失真的影响非常小。因此,即使不考虑透镜失真而执行校准,也能够以足够高的精度进行投影校正。
[引用列表]
[专利文献]
[专利文献1]
日本专利特许公开第2015-142157号
[专利文献2]
日本专利特许公开第2005-244835号
发明内容
[技术问题]
另一方面,通常所谓的fθ透镜涉及远大于ftanθ透镜的透镜失真的影响。因此,在使用具有fθ透镜的投影仪的投影仪-摄像装置系统进行投影校正的情况下,在与ftanθ透镜系统的情况一样不考虑透镜失真而执行校准会导致投影校正的精度低于ftanθ透镜系统中的投影校正。
鉴于以上情况作出了本公开内容,并且本公开内容的目的在于抑制图像投影校正的精度的降低。
[问题的解决方案]
根据本技术的一个方面,提供了一种信息处理装置,该信息处理装置包括姿势估计部,该姿势估计部被配置成:使得姿势估计部通过使用采用了fθ透镜的失真系数的图像投影模型来估计用于投影图像的投影部的姿势以及用于捕获图像要投影到的投影面的成像部的姿势,该fθ透镜的入射光的像高度由焦距f与入射光的入射角θ的乘积表示。
另外,根据本技术的一个方面,提供了一种信息处理方法,包括:通过使用采用了fθ透镜的失真系数的图像投影模型来估计用于投影图像的投影部的姿势以及用于捕获图像要投影到的投影面的成像部的姿势,该fθ透镜的入射光的像高度由焦距f与入射光的入射角θ的乘积表示。
利用根据本技术的一个方面的信息处理装置和信息处理方法,通过使用采用了fθ透镜的失真系数的图像投影模型来估计用于投影图像的投影部的姿势以及用于捕获图像要投影到的投影面的成像部的姿势,该fθ透镜的入射光的像高度由焦距f与入射光的入射角θ的乘积表示。
[本发明的有益效果]
根据本公开内容,可以校正图像投影。更具体,本公开内容允许减少图像投影校正的精度的降低。
附图说明
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