[发明专利]用于选择性预清洁的快速响应基座组件

权利要求书

1.一种基板支撑基座组件，包括：

轴；

基板支撑基座，所述基板支撑基座耦接至所述轴，所述基板支撑基座包括铝基板支撑板，所述铝基板支撑板包括：

穿过所述铝基板支撑板设置的垂直通路；和

以陶瓷材料涂布的顶表面；

多个同心气体分配通道；和

多个径向分配通道，其中所述多个同心气体分配通道耦接至所述多个径向分配通道，以使从所述垂直通路中流出的气体从中流过，并且其中所述陶瓷材料设置在所述多个同心气体分配通道和所述多个径向分配通道上方。

2.如权利要求1所述的基板支撑基座组件，其中所述陶瓷材料为氧化铝。

3.如权利要求1所述的基板支撑基座组件，其中所述基板支撑板的侧面并未以所述陶瓷材料涂布。

4.如权利要求1所述的基板支撑基座组件，其中所述基板支撑基座进一步包括：

气体分配板，所述气体分配板焊接至所述基板支撑板的底表面，所述气体分配板包括与真空吸附通路对齐的多个通路，所述真空吸附通路从所述底表面通过所述基板支撑板至所述顶表面。

5.如权利要求4所述的基板支撑基座组件，其中所述基板支撑基座进一步包括：

底板，所述底板焊接至所述气体分配板的底部，所述底板具有形成于其中的多个冷却通道，用于接收通过所述轴而输送的冷却剂流体。

6.如权利要求5所述的基板支撑基座组件，其中所述基板支撑基座进一步包括：

盖板，所述盖板耦接至所述底板，且将形成于所述底板中的所述冷却通道密封。

7.如权利要求5所述的基板支撑基座组件，其中所述气体分配板和所述底板由铝制成。

8.如权利要求4所述的基板支撑基座组件，其中在所述基板支撑基座中存在额外气体分配板，以向所述基板支撑基座的边缘提供净化流。

9.一种适于从基板的表面移除污染物的处理腔室，包括：

腔室主体；

盖组件，所述盖组件设置于所述腔室主体上；和

基板支撑基座组件，所述基板支撑基座组件至少部分地设置于所述腔室主体内，其中所述基座组件包括在处理期间将基板支撑于其上的基板支撑基座，所述基板支撑基座包括：

轴；和

铝基板支撑板，所述铝基板支撑板机械耦接至所述轴并且包括：

穿过所述铝基板支撑板设置的垂直通路；和

以陶瓷材料涂布的顶表面；

多个同心气体分配通道；和

多个径向分配通道，其中所述多个同心气体分配通道耦接至所述多个径向分配通道，以使从所述垂直通路中流出的气体从中流过，并且其中所述陶瓷材料设置在所述多个同心气体分配通道和所述多个径向分配通道上方。

10.如权利要求9所述的处理腔室，其中所述陶瓷材料为氧化铝。

11.如权利要求9所述的处理腔室，其中所述基板支撑板的侧面并未以所述陶瓷材料涂布。

12.如权利要求9所述的处理腔室，其中所述基板支撑基座进一步包括：

气体分配板，所述气体分配板焊接至所述基板支撑板的底表面，所述气体分配板包括与真空吸附通路对齐的多个通路，所述真空吸附通路从所述底表面通过所述基板支撑板至所述顶表面。

13.如权利要求12所述的处理腔室，其中所述基板支撑基座进一步包括：

底板，所述底板焊接至所述气体分配板的底部，所述底板具有形成于其中的多个冷却通道，用于接收通过所述轴而输送的冷却剂流体。

14.如权利要求13所述的处理腔室，其中所述基板支撑基座进一步包括：

盖板，所述盖板耦接至所述底板，且将形成于所述底板中的所述冷却通道密封。

15.如权利要求12所述的处理腔室，其中在所述基板支撑基座中存在额外气体分配板，以向所述基板支撑基座的边缘提供净化流。