[发明专利]基片固持设备和形状度量方法在审

专利信息
申请号: 201980012400.5 申请日: 2019-03-19
公开(公告)号: CN111699548A 公开(公告)日: 2020-09-22
发明(设计)人: 姜浩英;安东·德维利耶 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/687 分类号: H01L21/687;H01L21/683;H01L21/67;H01L21/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 陈炜;李德山
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 基片固持 设备 形状 度量 方法
【权利要求书】:

1.一种用于固持基片的设备,该设备包括:

容器,该容器配置用于容纳液体,该容器限定顶部开口,使得当该容器容纳该液体时,该液体的顶表面可用于在该液体的顶表面上放置基片并且从该液体的顶表面移除基片;

基片移送机构,该基片移送机构配置成将基片放置在该液体的顶表面上并且从该液体的顶表面移除该基片;

基片固持机构,该基片固持机构配置成当该基片搁置在该液体的顶表面上时防止该基片移动。

2.如权利要求1所述的设备,进一步包括膜,该膜定位在该液体的顶表面上,该膜将该基片与该液体隔开,使得该基片移送机构配置成将该基片放置在该膜上并且从该膜移除该基片。

3.如权利要求2所述的设备,其中,该膜配置成具有足够的柔韧性以允许该基片部分地沉入该液体中。

4.如权利要求3所述的设备,其中,该膜足够柔韧,以允许该液体的顶表面和该基片的顶表面彼此齐平。

5.如权利要求1所述的设备,其中,该液体被选择成该液体具有与该基片的比重相匹配的比重。

6.如权利要求1所述的设备,其中,该基片固持机构包括真空吸盘,该真空吸盘配置成在该基片搁置在该液体上时附接至该基片的底表面。

7.如权利要求6所述的设备,其中,该真空吸盘接触到的该基片的表面面积小于该液体接触到的该基片表面面积的百分之十。

8.如权利要求1所述的设备,其中,该基片固持机构包括周界支撑件,在该基片搁置在该液体上时,该周界支撑件在该基片的外围处与该基片接触并且防止该基片在该液体上横向移动。

9.如权利要求1所述的设备,进一步包括测量装置,该测量装置配置成在该基片被固持在该液体的顶表面上时,测量该基片的前侧表面的形状,其中该基片的背侧表面与该前侧表面相反。

10.一种用于固持基片的设备,包括:

容器,该容器配置用于容纳液体,该容器限定顶部开口,使得当该容器容纳该液体时,该液体的顶表面可用于放置基片并且移除基片;

膜,该膜定位在该容器中并且配置成当该容器容纳该液体时与该液体接触;以及

基片移送机构,该基片移送机构配置成将该基片放置在该膜上并从该膜移除该基片,该膜足够柔韧以允许该基片至少部分地沉入该液体中;

基片固持机构,该基片固持机构配置成当该基片搁置在该膜上并且被该液体支撑时,防止该基片移动。

11.如权利要求10所述的设备,其中,该液体被选择成使该液体具有等于或大于该基片比重的比重。

12.如权利要求11所述的设备,其中,该基片固持机构包括真空吸盘,该真空吸盘配置成在该基片搁置在该液体上时附接至该基片的底表面。

13.如权利要求11所述的设备,其中,该基片固持机构包括周界支撑件,在该基片搁置在该膜上时,该周界支撑件在该基片的外围处与该基片接触并且防止该基片在该膜上的横向移动。

14.如权利要求10所述的设备,进一步包括测量装置,该测量装置配置成在该基片被固持在该膜上时,测量该基片的前侧表面的曲率。

15.如权利要求10所述的设备,进一步包括测量装置,该测量装置配置成在该基片被固持在该膜上时,测量该基片的表面上的坐标位置处的z高度。

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