[发明专利]包括气锁的设备

权利要求书

1.一种设备，包括：

衬底台，用于支撑衬底；

投影系统，具有主体，所述主体限定内部和开口，所述投影系统配置并布置成将辐射束通过所述开口投影到由所述衬底台支撑的衬底上；

气锁，用于提供来自所述开口远离所述内部的气流；和

气流引导件，配置成引导所述气流的至少一部分远离由所述衬底台支撑的衬底。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述气锁布置成提供通过所述开口并远离所述内部的气流。

3.如权利要求1或2所述的设备，其中所述气流引导件配置成沿着流体传导率大体固定的流体路径引导所述气流的至少一部分。

4.如任一前述权利要求所述的设备，其中所述气流引导件配置成使得来自所述开口远离所述内部的气流的超过一半被引导远离由所述衬底台支撑的所述衬底。

5.如任一前述权利要求所述的设备，其中所述气流引导件配置成沿着相较于其它可获得的流体路径具有较高流体传导率的流体路径引导所述气流的至少一部分。

6.如任一前述权利要求所述的设备，其中所述气流引导件包括泵，所述泵布置成沿着流体路径抽取所述气流的至少一部分。

7.如任一前述权利要求所述的设备，还包括移动机构，所述移动机构用于相对于所述投影系统的所述开口移动所述衬底台。

8.如任一前述权利要求所述的设备，还包括中间构件，所述中间构件布置在所述开口和所述衬底台之间，其中所述气流引导件包括限定在所述中间构件和所述投影系统之间的路径。

9.如权利要求8所述的设备，其中所述中间构件配置成将沿着限定在所述中间构件与所述投影系统之间的路径流动的气体引导至形成于所述投影系统的所述主体的壁内的空腔中。

10.如权利要求8或9所述的设备，其中所述中间构件包括密封元件，所述密封元件围绕所述投影系统的所述开口的实质上整个周边朝向所述投影系统的所述主体的壁延伸并与所述壁形成密封关系。

11.如权利要求10所述的设备，其中所述密封元件包括刚性的凸缘部分，其中在所述刚性的凸缘部分和与所述刚性的凸缘部分形成密封关系的所述投影系统的所述主体的所述壁的部分之间设置一间隙。

12.如权利要求10或11所述的设备，还包括柔性膜，所述柔性膜连接于所述中间构件与投影系统的所述主体的所述壁之间。

13.如权利要求8-12中任一项所述的设备，其中所述中间构件能够相对于所述投影系统至少在第一操作位置和第二缩回位置之间移动。

14.如权利要求8-13中任一项所述的设备，其中所述中间构件能够操作以冷却所述衬底的围绕所述衬底的被辐射束辐照的区的区。

15.如权利要求14所述的设备，其中所述中间构件能够操作以将冷却气流引导至所述衬底的围绕所述衬底的被辐射束辐照的区的区。

16.如权利要求14或14所述的设备，其中所述中间构件包括冷却构件，所述冷却构件被维持在比所述衬底台更低的温度，所述中间构件还包括热屏蔽件，所述热屏蔽件被布置成使得所述衬底台和/或所述投影系统与所述冷却构件热绝缘。

17.一种光刻设备，包括：

照射系统，配置成调节辐射束；

支撑结构，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中将图案赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束；和

任一前述权利要求所述的设备，其中所述投影系统配置成接收所述图案化的辐射束并将所述图案化的辐射束投影到由所述衬底台支撑的衬底上。