[发明专利]相位差控制装置有效

专利信息
申请号: 201980014264.3 申请日: 2019-01-30
公开(公告)号: CN111742202B 公开(公告)日: 2023-09-15
发明(设计)人: 三好有一 申请(专利权)人: 日本分光株式会社
主分类号: G01J4/04 分类号: G01J4/04;G01N21/19;G02B27/28;G02F1/01;G05D25/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 相位差 控制 装置
【说明书】:

本发明涉及一种能够在CD光谱仪中利用的相位差控制装置的响应性改善技术。相位差控制装置具备:分割偏振器(14),其将来自光源(12)的光分割成直线偏振的测定光和直线偏振的参照光;PEM(16),其以与分光测定相对应的方式对测定光和参照光赋予相位差;PEM驱动器(18),其向PEM(16)供给调制电压;PEM控制电路(24),其输入参照光作为反馈信号,并且向PEM驱动器(18)输出调制控制量信号,相位差控制装置还具备CPU电路(26),该CPU电路监视分割偏振器(14)的光的波长,并输入波长变化作为波长信号,CPU电路(26)将波长信号变换成前馈信号,前馈信号被输出到PEM控制电路(24),PEM控制电路(24)进行基于反馈信号和前馈信号的运算处理,来向PEM驱动器(18)输出调制控制量信号。

本申请是以2018年2月26日申请的日本专利申请2018-31529号为优先权主张基础,在此被引用。

技术领域

本发明涉及一种在具备光弹调制器(PEM)的各种光谱仪等中使用的相位差控制装置、特别是能够在圆二色光谱仪(CD)、线性二色光谱仪(LD)中利用的相位差控制装置的响应性改善技术。

背景技术

以往,光弹调制器(Photoelastic Modulator:PEM)被应用于各种分光测定中。一般来说,已知PEM作为用于利用双折射来对入射偏振光进行相位调制的元件。而且,使用PEM进行的偏振光测定的灵敏度非常高,例如当向PEM入射的入射光产生波长变化等时,给PEM的相位调制动作也带来大的影响。也就是说,有可能因向PEM入射的入射光的波长变化等而导致给分光测定的测定结果带来大的影响。

因此,在专利文献1中公开了如下一种技术:在相位差控制装置中具备光弹调制器控制电路,进行控制使得所检测出的参照光束中的角频率为2ω的交流分量的振幅与直流分量的大小之比恒定,从而即使向光弹调制器入射的光的波长、光弹调制器等的温度变化,也能够使通过光弹调制器赋予的相位差保持恒定。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开平5-10821

发明内容

发明要解决的问题

然而,通过将如专利文献1的结构利用于相位差控制装置中,能够应对光弹调制器的环境变化(入射光的波长变化等),但由于在此种结构中,控制的响应性有极限(由于是获取在光弹调制器中是否方式了变化作为信号的控制,因此必然受到该变化的影响),实际上在获取频谱数据时,仅能够应对步进扫描。也就是说,存在以下问题:在例如圆二色光谱仪等必须连续扫描的分光测定器等中无法应用此种技术。

用于解决问题的方案

本发明是鉴于上述现有技术的问题而进行的,其目的在于提供一种即使在光弹调制器中产生入射光的波长变化等,也能够实现稳定的相位差控制,并且改善相位差控制的响应性从而还能够应对连续扫描的相位差控制装置和方法。

为了解决上述问题,本发明所涉及的相位差控制装置被利用于对试样进行分光测定的分光测定器中,所述相位差控制装置的特征在于,

该相位差控制装置具备:分割偏振器:其将来自光源的入射光分割成直线偏振的测定光和直线偏振的参照光;PEM,其进行以与所述分光测定相对应的方式对所述测定光和参照光赋予相位差的相位调制动作;PEM驱动器,其向该PEM供给用于进行相位调制动作的调制电压;以及PEM控制电路,其输入所述参照光作为反馈信号,并且向所述PEM驱动器输出调制控制量信号,

所述相位差控制装置还具备CPU电路,该CPU电路监视所述分割偏振器中的光的波长,输入该波长的变化作为波长信号,

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本分光株式会社,未经日本分光株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980014264.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top