[发明专利]基板清洗装置和基板清洗方法

说明书

提供清洗力较高的基板清洗装置和基板清洗方法。提供基板清洗装置，具备：基板旋转机构，该基板旋转机构使基板旋转；以及第一喷嘴和第二喷嘴，该第一喷嘴和第二喷嘴朝向旋转的所述基板的规定面喷射超声波清洗液，所述第一喷嘴与所述第二喷嘴保持于一个壳体。

技术领域

本发明涉及使用超声波清洗液来清洗基板的基板清洗装置和基板清洗方法。

背景技术

公知有使用超声波清洗液来清洗基板的基板清洗装置(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2017-162889号公报

发明内容

本发明的课题在于，提供清洗力较高的基板清洗装置和基板清洗方法。

根据本发明的一个方式，提供基板清洗装置，具备：基板旋转机构，该基板旋转机构使基板旋转；以及第一喷嘴和第二喷嘴，该第一喷嘴和第二喷嘴朝向旋转的所述基板的规定面喷射超声波清洗液，所述第一喷嘴与所述第二喷嘴保持于一个壳体。

来自所述第一喷嘴的超声波清洗液与来自所述第二喷嘴的超声波清洗液也可以在相互混合后到达所述规定面、也可以在到达所述规定面后相互混合。

优选所述第一喷嘴和所述第二喷嘴安装于以旋转轴为中心旋转的臂的顶端，向所述基板的第一面喷射超声波清洗液。

优选所述第一喷嘴向旋转的所述基板的第一面喷射超声波清洗液，所述第二喷嘴向旋转的所述基板的与所述第一面相反的一侧的第二面喷射超声波清洗液。

优选所述第一喷嘴和/或所述第二喷嘴向旋转的所述基板的边缘部分喷射超声波清洗液。

优选向所述边缘部分喷射超声波清洗液的所述第一喷嘴和/或所述第二喷嘴以如下的方式喷射超声波清洗液：超声波清洗液不会碰到旋转的所述基板的斜面而落到所述基板的边缘部分，然后从边缘部分朝向中心。

优选向所述边缘部分喷射超声波清洗液的所述第一喷嘴和/或所述第二喷嘴以如下的方式喷射超声波清洗液：超声波清洗液落到旋转的所述基板的比边缘部分靠中心侧的位置，然后朝向边缘部分。

优选所述第一喷嘴和/或所述第二喷嘴向旋转的所述基板的斜面喷射超声波清洗液。

优选向所述斜面喷射超声波清洗液的所述第一喷嘴和/或所述第二喷嘴向旋转的所述基板的切线方向喷射超声波清洗液。

优选所述第一喷嘴和所述第二喷嘴一边在所述基板旋转机构的附近摆动，一边向所述基板的边缘部分喷射超声波清洗液。

也可以是，基板清洗装置还具备：流路，该流路与所述壳体连接，并向所述第一喷嘴和所述第二喷嘴供给清洗液；振子，该振子对从所述流路供给的清洗液施加超声波；以及微泡供给机构，该微泡供给机构与所述流路连接，并向清洗液导入微泡。

也可以是，基板清洗装置还具备过滤器，该过滤器设置在所述第一喷嘴及所述第二喷嘴与所述微泡供给机构之间，并构成为除去通过所述微泡供给机构而导入的微泡。

根据本发明的其他的方式，提供基板清洗方法，一边使基板旋转，一边从保持于一个壳体的第一喷嘴和第二喷嘴朝向所述基板的规定面喷射超声波清洗液。

优选关于从所述第一喷嘴喷射的超声波清洗液与从所述第二喷嘴喷射的超声波清洗液，超声波清洗液的频率、电力、流量、温度和液体种类中的至少一个相互不同。

清洗力提高。

附图说明

图1是一个实施方式的基板处理装置的概略俯视图。

图2是表示基板清洗装置4的概略结构的俯视图。