[发明专利]阀装置以及流体控制装置在审
申请号: | 201980016155.5 | 申请日: | 2019-02-19 |
公开(公告)号: | CN111836985A | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 渡边一诚;执行耕平;泽田洋平;中田知宏;篠原努 | 申请(专利权)人: | 株式会社富士金 |
主分类号: | F16K7/16 | 分类号: | F16K7/16;F16K27/02;H01L21/02 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 以及 流体 控制 | ||
本发明提供进一步降低物理性冲击对阀芯的影响的阀装置。阀装置(1)具有:阀座(41),其配置在与形成于阀体(3)内的流路连接的开口的周围;隔膜(5),其通过在相对于阀座(41)接触的接触位置以及相对于阀座(41)不接触的非接触位置之间移动而进行流路的开闭;按压转接器(6),其与隔膜(5)的周缘部接触;壳体(2),其内置有使隔膜(5)动作的致动器,与形成于阀体(3)的螺纹孔螺纹结合而固定在阀体(3);以及转接器固定环(7),其与螺纹孔螺纹结合并对按压转接器(6)以及隔膜(5)进行按压,并且固定在阀体(3)内。
技术领域
本发明涉及阀装置以及包括该阀装置的流体设备集成化而成的流体控制装置。
背景技术
例如,作为为了向半导体制造装置等的腔室供给各种处理气体而使用的流体控制装置,已知有下述专利文献1等所公开的流体控制装置。
专利文献1:日本特开2015-175502号公报
发明内容
在上述那样的流体控制装置的领域中,要求气体的供给控制的高响应性,因此要求使流体控制装置尽可能地小型化、集成化,并且设置在更靠近作为流体的供给目的地的腔室等的位置。由于在腔室等的附近配置空间存在限制,因此期望用于流体控制装置的阀装置进一步缩小块状的阀体的尺寸、内置有致动器的壳体的外径,该致动器使设置在阀体上的阀芯动作。
另一方面,半导体晶圆的大口径化等处理对象物的大型化发展,与之相应地也需要增加或维持自流体控制装置向腔室内供给的流体的供给流量。为了确保流量,出于确保在对阀进行开闭时的隔膜等阀芯的升程量等理由,致动器在阀芯的动作方向上变长。因此,阀装置成为与阀体的大小相比内置有致动器的壳体的高度较高的细长的外观。
在这样的细长构造的阀装置中,例如对于在附近进行作业的操作者的接触等冲击难以确保充分的强度。然而,在对流体进行控制的阀装置中,需要以下构造:即使在受到接触、地震等物理性冲击的情况下,冲击也不会传递至阀芯而对阀的开闭产生影响。
本公开是鉴于上述情况而作成的,其目的在于提供实现小型化并且进一步降低物理性冲击对阀芯的影响的阀装置以及流体控制装置。
本公开的阀装置是具有以下构件的阀装置:阀座,其配置在与形成于阀体内的流路连接的开口部的周围;隔膜,其通过在相对于所述阀座接触的接触位置以及相对于所述阀座不接触的非接触位置之间移动而进行所述流路的开闭;按压转接器,其与所述隔膜的周缘部接触;壳体,其内置有使所述隔膜动作的致动器,与形成于所述阀体的螺纹孔螺纹结合而固定在所述阀体上;以及转接器固定环,其与所述螺纹孔螺纹结合并对所述按压转接器以及所述隔膜进行按压,并且固定在所述阀体内。
另外,在本公开的阀装置中,也可以是,在所述螺纹孔中,所述转接器固定环与所述壳体彼此具有间隙地配置。
另外,在本公开的阀装置中,也可以是,所述转接器固定环在外侧具有螺纹部,在内侧具有沿着轴向延伸的多个槽。
另外,在本公开的阀装置中,也可以是,所述壳体具有与所述阀体的上表面接触的保护构件。
另外,在本公开的阀装置中,也可以是,在所述隔膜的与所述阀座侧相反的一侧还具有与所述隔膜的中央部接触的隔膜按压件,所述隔膜按压件的在所述螺纹孔延伸的方向上的长度比所述转接器固定环(7)的长度长。
另外,在本公开的阀装置中,能够将一个方向上的外形尺寸设为10mm以下。
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