[发明专利]脱模膜有效
| 申请号： | 201980017734.1 | 申请日： | 2019-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN111819228B | 公开（公告）日： | 2023-09-19 |
| 发明（设计）人： | 六车有贵;多田博士;川原良介;前川博亮;小屋原宏明;丰岛克典 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08J7/00 | 分类号： | C08J7/00;B29C33/68;B32B27/00;C08J5/18;H05K3/46 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 脱模 | ||
1.一种脱模膜，其特征在于，其为具有至少1个脱模层的脱模膜，
所述脱模层的利用将入射角设为0.06°的斜入射广角X射线衍射法求得的结晶度为50％以上，
所述脱模层的利用广角X射线衍射法求得的脱模层整体的结晶度低于利用将入射角设为0.06°的斜入射广角X射线衍射法求得的脱模层的结晶度。
2.根据权利要求1所述的脱模膜，其特征在于，脱模层整体的结晶度为25％～50％。
3.根据权利要求1或2所述的脱模膜，其特征在于，脱模层的表面的算术平均粗糙度Ra为0.50μm以下。
4.根据权利要求1或2所述的脱模膜，其特征在于，脱模层的表面的光泽度为100％以上。
5.根据权利要求1或2所述的脱模膜，其特征在于，脱模层的通过ATR法测定的红外吸收光谱中的Abs(x)和Abs(x+12)满足下述式，
Abs(x)/Abs(x+12)≤1.50
式中，Abs(x)为存在于波数1455cm-1以上且1465cm-1以下的区域的最大吸收强度，x为显示所述最大吸收强度的波数，Abs(x+12)为波数(x+12)cm-1处的吸收强度。
6.根据权利要求5所述的脱模膜，其特征在于，脱模层的水接触角为71°以上。
7.根据权利要求1或2所述的脱模膜，其特征在于，脱模层含有芳香族聚酯树脂。
8.根据权利要求7所述的脱模膜，其特征在于，芳香族聚酯树脂含有聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂。
9.根据权利要求8所述的脱模膜，其特征在于，聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂在构成脱模层的树脂中所占的比例为75重量％以上。
10.根据权利要求1或2所述的脱模膜，其特征在于，所述脱模层的厚度为10μm以上且40μm以下。
11.根据权利要求1或2所述的脱模膜，其特征在于，所述脱模膜还具有缓冲层，在所述缓冲层的两侧具有脱模层。
12.根据权利要求1或2所述的脱模膜，其特征在于，所述脱模膜用于制造基于卷对卷方式的挠性电路基板。
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