[发明专利]用于使用质谱法量化两种或更多种分析物的方法和系统

权利要求书

1.一种使用质谱仪来量化表示瞬态样品中的两种或更多种分析物的瞬态事件的方法，所述方法包括：

借助于通过用气体对碰撞反应池进行加压而有区别地降低所述碰撞反应池中的离子云中的不同分析物离子的离子速度来加宽离子云，所述离子云包括来自所述瞬态样品的第一分析物的离子和来自所述瞬态样品的第二分析物的离子；

将包括离子速度有区别地增加的所述不同离子的所述加宽离子云从所述碰撞反应池提供到在所述碰撞反应池下游流体耦接到所述碰撞反应池的质量分析器，以使用所述质量分析器来在来自所述第一分析物的所述离子与来自所述第二分析物的所述离子之间交替选择；

将交替选择的来自所述第一分析物的所述离子和来自所述第二分析物的所述离子从所述质量分析器提供到流体耦接到所述质量分析器的下游检测器，以在检测时段期间将来自所述第一分析物的所提供离子检测为第一检测值，并且在所述检测时段期间将来自所述第二分析物的所提供离子检测为第二检测值；

使用所检测的第一检测值来生成表示所述样品中的所述第一分析物的第一强度曲线；

使用所检测的第二检测值来生成表示所述样品中的所述第二分析物的第二强度曲线；

使用所生成的第一强度曲线来确定所述瞬态样品中的所述第一分析物的量，以及使用第二所生成的强度曲线来确定所述瞬态样品中的所述第二分析物的量。

2.如权利要求1所述的方法，其还包括：使用第一分析物预扫描曲线来确定所述所生成的第一强度曲线的形状，以及使用第二分析物预扫描曲线来确定所述所生成的第二强度曲线的形状。

3.如权利要求2所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第一强度曲线的峰高来确定所述第一分析物的量。

4.如权利要求3所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第二强度曲线的峰高来确定所述第二分析物的量。

5.如权利要求2所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第一强度曲线下方的面积来确定所述第一分析物的量。

6.如权利要求5所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第二强度曲线下方的面积来确定所述第二分析物的量。

7.如权利要求1所述的方法，其还包括：更改所述碰撞反应池内的轴向场强度以进一步加宽所述碰撞反应池内中的所述离子云。

8.如权利要求1所述的方法，其还包括：降低向所述碰撞反应池内的轴向电极提供的电压以更改所述碰撞反应池内的所述轴向场强度。

9.如权利要求1所述的方法，其还包括：更改所述质谱仪的采样深度以进一步加宽所述离子云。

10.如权利要求1所述的方法，其还包括：将所述瞬态样品配置成包括单纳米颗粒、单纳米结构、单微粒、单微结构、单细胞或细胞的单细胞器。