[发明专利]反应处理装置在审
申请号: | 201980018161.4 | 申请日: | 2019-03-12 |
公开(公告)号: | CN111819276A | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
发明(设计)人: | 福泽隆;竹内秀光;川口磨 | 申请(专利权)人: | 日本板硝子株式会社 |
主分类号: | C12M1/00 | 分类号: | C12M1/00;G01N21/64 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 于洁;褚瑶杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反应 处理 装置 | ||
1.一种反应处理装置,其特征在于,包括:
反应处理容器,其形成有供样本移动的流路,
第1荧光检测装置,其使第1激发光照射所述流路中设定的第1荧光检测区域中的样本,并对通过所述第1激发光的照射而从样本产生的第1荧光进行检测,以及
第2荧光检测装置,其使第2激发光照射所述流路中设定的第2荧光检测区域中的样本,并对通过所述第2激发光的照射而从样本产生的第2荧光进行检测;
所述第1荧光的波长范围和所述第2激发光的波长范围的至少一部分重叠,
所述第1激发光及所述第2激发光以规定的占空比闪烁发光,
在将所述第1激发光和所述第2激发光的闪烁的占空比设为d时,所述第1激发光与所述第2激发光的闪烁的相位差被设定在2π(pm-Δpm)[rad]~2π(pm+Δpm)[rad]的范围内、或2π{(1-pm)-Δpm}[rad]~2π{(1-pm)+Δpm}[rad]的范围内,其中pm=d-d2及Δpm=0.01×pm。
2.一种反应处理装置,其特征在于,包括:
反应处理容器,其形成有供样本移动的流路,
第1荧光检测装置,其使第1激发光照射所述流路中设定的第1荧光检测区域中的样本,并对通过所述第1激发光的照射而从样本产生的第1荧光进行检测,以及
第2荧光检测装置,其使第2激发光照射所述流路中设定的第2荧光检测区域中的样本,并对通过所述第2激发光的照射而从样本产生的第2荧光进行检测;
所述第1荧光的波长范围和所述第2激发光的波长范围的至少一部分重叠,
所述第1激发光及所述第2激发光以规定的占空比闪烁发光,
在将所述第1激发光和所述第2激发光的闪烁的占空比设为d时,所述第1激发光与所述第2激发光的闪烁的相位差被设定在2π(pm-Δpm)[rad]~2π(pm+Δpm)[rad]的范围内、或2π{(1-pm)-Δpm}[rad]~2π{(1-pm)+Δpm}[rad]的范围内,其中pm=d-d2及Δpm=(d-d2)/{k·(N0')/V10},N0'是所述第1激发光和所述第2激发光的闪烁的相位差为0rad时的所述第1荧光检测装置的信号输出的噪声,V10是所述第2荧光检测装置未工作的情况下的所述第1荧光检测装置的信号输出,k=20。
3.如权利要求2所述的反应处理装置,其特征在于,
k=100/3。
4.如权利要求2所述的反应处理装置,其特征在于,
k=100。
5.如权利要求1至4的任意一项所述的反应处理装置,其特征在于,
所述第1荧光检测装置具备照射所述第1激发光并接收所述第1荧光的第1光学头;
所述第2荧光检测装置具备照射所述第2激发光并接收所述第2荧光的第2光学头;
在所述第1光学头及所述第2光学头的数值孔径处于0.07~0.23的范围内的情况下,所述第1荧光检测区域的中心与所述第2荧光检测区域的中心之间的距离被设定为4mm以上。
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