[发明专利]用于光刻系统的束形成和照明系统、光刻系统和方法

权利要求书

1.一种光刻设备(100A，100B)的束成形和照明系统(200)，特别是EUV光刻设备的束成形和照明系统，具有：

光学元件(202，204，206，208)，以及

调节装置(700)，所述调节装置配置为在所述束成形和照明系统(200)的加热阶段期间测量所述束成形和照明系统(200)的场位置和/或光瞳位置，并且根据测量的场位置和/或光瞳位置调节所述光学元件(202，204，206，208)的取向和/或位置，以便将所述光学元件(202，204，206，208)保持在目标定位(SL)中。

2.根据权利要求1所述的束成形和照明系统，还包括多个光学元件(202，204，206，208)，特别是场分面反射镜、光瞳分面反射镜、和/或聚光器反射镜，其中，所述调节装置(700)配置为根据所述测量的场位置和/或光瞳位置调节所述光学元件(202，204，206，208)关于彼此的取向和/或位置。

3.根据权利要求1或2所述的束成形和照明系统，还包括所述光学元件(202，204，206，208)的承载装置(500)，特别是六脚架，其中，所述承载装置(500)包括通过所述调节装置(700)可控制的致动元件(526)，特别是压电元件。

4.根据权利要求3所述的束成形和照明系统，其中，所述承载装置(500)包括各具有致动元件(526)的六个承载单元(502，504，506，508，510，512)。

5.根据权利要求4所述的束成形和照明系统，其中，每个承载单元(502，504，506，508，510，512)包括改变相应的承载单元(502，504，506，508，510，512)的长度的间隔体(518)。

6.根据权利要求4或5所述的束成形和照明系统，其中，能够实行所述承载单元(502，504，506，508，510，512)的长度(ΔL)的改变以调节所述光学元件(202，204，206，208)的取向和/或位置。

7.根据权利要求4至6中任一项所述的束成形和照明系统，其中，所述致动元件(526)能够从未偏转状态(Z1)进入到偏转状态(Z2)中，并且其中，所述致动元件(526)在所述未偏转状态(Z1)和所述偏转状态(Z2)二者中都不具有电流。

8.根据权利要求4至7中任一项所述的束成形和照明系统，其中，每一个承载单元(502，504，506，508，510，512)包括第一弯曲解耦元件(516)、第二弯曲解耦元件(522)和布置在所述第一弯曲解耦元件(516)和所述第二弯曲解耦元件(522)之间的销区段(520)，并且其中，所述致动元件(526)布置在所述第一弯曲解耦元件(516)和所述第二弯曲解耦元件(522)之间、在所述第一弯曲解耦元件(516)和所述光学元件(202，204，206，208)之间、或者在所述第二弯曲解耦元件(522)和所述束成形和照明系统(200)的基底(400)之间。

9.一种光刻设备(100A，100B)，特别是EUV光刻设备，具有如权利要求1至8中任一项所述的束成形和照明系统(200)。

10.一种调节光刻设备(100A，100B)的束成形和照明系统(200)的方法，包括以下步骤：

a)测量(S10)所述束成形和照明系统(200)的场位置和/或光瞳位置，以及

b)根据测量的场位置和/或光瞳位置，在所述束成形和照明系统(200)的加热阶段期间，调节(S20)所述束成形和照明系统(200)的光学元件(202，204，206，208)的取向和/或位置，使得所述光学元件(202，204，206，208)保持在目标定位(SL)中。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，迭代地实行步骤a)和b)，直到所述场位置和/或光瞳位置满足所需规范。