[发明专利]图像曝光装置、图像曝光方法及记录介质有效

专利信息
申请号: 201980020407.1 申请日: 2019-02-15
公开(公告)号: CN111868624B 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 吉泽宏俊;园田慎一郎 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03B27/32 分类号: G03B27/32;G03B27/16;G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 高颖
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 图像 曝光 装置 方法 记录 介质
【权利要求书】:

1.一种图像曝光装置,其具备:

图像显示装置,其具有多个像素并且照射与由所述多个像素表示的显示图像对应的光;

支撑部,使记录与所述显示图像对应的记录图像的感光性记录介质的曝光面与所述图像显示装置对置而支撑所述感光性记录介质;

限制部件,设置于所述图像显示装置与所述支撑部之间,并且限制从所述图像显示装置照射到所述感光性记录介质的所述光的角度;及

控制部,通过根据所述图像显示装置的分辨率进行了加权的钝化掩模处理来强调被输入的图像数据所表示的输入图像的高频成分的浓度差,由此进行将使所述输入图像的画质劣化的所述显示图像显示于所述图像显示装置的控制,

将所述钝化掩模处理的权重设为y,并且将用于所述钝化掩模处理的二维高斯分布度标准偏差设为x的情况下,满足下述(1)式:

-0.1×x+0.40<y<-0.1×x+0.90……(1)。

2.根据权利要求1所述的图像曝光装置,其中,

所述显示图像为比所述记录图像更强调边缘的图像。

3.根据权利要求1所述的图像曝光装置,其中,

将所述钝化掩模处理的权重设为y,将用于所述钝化掩模处理的二维高斯分布度标准偏差设为x,并且将所述图像显示装置的分辨率设为Xppi的情况下,满足下述(2)式:

-0.1×x×(X÷325)+0.40<y<-0.1×x×(X÷325)+0.90

……(2)。

4.根据权利要求1或2所述的图像曝光装置,其中,

所述限制部件为漫射光学系统的光学部件。

5.根据权利要求4所述的图像曝光装置,其中,

所述光学部件为百叶窗式薄膜,所述百叶窗式薄膜在与所述图像显示装置的像素的排列面平行的面上的第1方向上交替地配置有透射光的第1透光部及遮蔽光的第1遮光部,并且在与所述第1方向不平行的、所述面上的第2方向上交替地配置有透射光的第2透光部及遮蔽光的第2遮光部。

6.根据权利要求4所述的图像曝光装置,其中,

所述光学部件为百叶窗式薄膜,所述百叶窗式薄膜在与所述图像显示装置的像素的排列面平行的面上的第1方向上交替地配置有透射光的第1透光部及遮蔽光的第1遮光部,并且在与所述第1方向垂直的、所述面上的第2方向上交替地配置有透射光的第2透光部及遮蔽光的第2遮光部。

7.根据权利要求5所述的图像曝光装置,其中,

所述百叶窗式薄膜中层叠有第1层及第2层,所述第1层仅在所述第1方向上交替地配置有所述第1透光部及所述第1遮光部,所述第2层仅在所述第2方向上交替地配置有所述第2透光部及所述第2遮光部。

8.根据权利要求5所述的图像曝光装置,其中,

所述百叶窗式薄膜的厚度为2.0mm以上且4.0mm以下,

所述百叶窗式薄膜的百叶窗间距为80μm以下。

9.根据权利要求1或2所述的图像曝光装置,其中,

所述限制部件配置成从所述感光性记录介质离开规定距离。

10.根据权利要求9所述的图像曝光装置,其中,

所述规定距离为0.67mm以下。

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