[发明专利]图像曝光装置、图像曝光方法及记录介质有效
申请号: | 201980020407.1 | 申请日: | 2019-02-15 |
公开(公告)号: | CN111868624B | 公开(公告)日: | 2022-04-26 |
发明(设计)人: | 吉泽宏俊;园田慎一郎 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03B27/32 | 分类号: | G03B27/32;G03B27/16;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 高颖 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像 曝光 装置 方法 记录 介质 | ||
本发明提供一种与只设置限制部件的情况相比能够抑制记录图像的模糊的图像曝光装置、图像曝光方法及保存有程序的非暂时性的计算机能读取的记录介质。图像曝光装置(10)具备:图像显示装置(12),其具有多个像素(13)并且照射与由多个像素(13)表示的显示图像对应的光;支撑部(21),使记录与显示图像对应的记录图像的感光性记录介质(14)的曝光面(14A)与图像显示装置(12)对置而支撑感光性记录介质(14);百叶窗式薄膜(16),设置于图像显示装置(12)与支撑部(21)之间,并且限制从图像显示装置(12)照射到感光性记录介质(14)的光的角度;及控制部(30),通过强调被输入的图像数据所表示的输入图像的高频成分的浓度差,进行将使输入图像的画质劣化的显示图像显示于图像显示装置(12)的控制。
技术领域
本发明涉及一种图像曝光装置、图像曝光方法及保存有程序的非暂时性的计算机能读取的记录介质。
背景技术
对于照片或光掩模等的曝光使用成像系统的光学系统即投影光学系统。然而,在投影光学系统的情况下,在由图像显示装置显示的显示图像与感光性记录介质等感光材料之间需要透镜等光学系统,并且需要大体积。在通过光掩模来曝光半导体等图案的情况下,使掩模与感光材料密合或几乎密合。进行曝光时,在感光材料与掩模图案之间设置间隙或保护板并投射平行光,由此抑制经曝光的图像模糊。
并且,利用从光源射出的光中与感光材料平行地射出的光照射到感光材料并进行曝光,由此抑制经曝光的记录图像模糊。例如,在专利文献1及2中记载有,在感光材料与显示于电子显示器等的显示图像之间设置光纤阵列等图像显示装置,并且在从显示器向感光性材料照射的光中,选择(准直)从显示器朝向感光材料的平行的光,照射到感光材料。在专利文献1及2中所记载的技术中,能够抑制经曝光的记录图像的渗色。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2009-037011号公报
专利文献2:美国专利第9126396号说明书
发明内容
发明要解决的技术课题
如上所述,在通过限制部件限制从图像显示装置照射的光来准直的情况下,有根据限制部件的结构导致透射限制部件的光扩散的情况。因此,在记录于感光性记录介质的记录图像中,有成为浓度差变小且图像的边缘部分的可见性降低的所谓的产生模糊的图像的情况。
在上述专利文献1及2中所记载的技术中,有无法抑制因透射限制部件的光的扩散而产生的记录图像的模糊的情况。
本发明是鉴于这种情况而完成的,其目的在于提供一种与只设置限制部件的情况相比能够抑制记录图像的模糊的图像曝光装置、图像曝光方法及程序。
用于解决技术课题的手段
为了实现上述目的,本发明的第1方式的图像曝光装置具备:图像显示装置,其具有多个像素并且照射与由多个像素表示的显示图像对应的光;支撑部,使记录与显示图像对应的记录图像的感光性记录介质的曝光面与图像显示装置对置而支撑感光性记录介质;限制部件,设置于图像显示装置与支撑部之间,限制从图像显示装置照射到感光性记录介质的光的角度;及控制部,通过强调被输入的图像数据所表示的输入图像的高频成分的浓度差,进行将使输入图像的画质劣化的显示图像显示于图像显示装置的控制。
并且,在第1方式的图像曝光装置中,本发明的第2方式的图像曝光装置中的显示图像可以为比记录图像更强调边缘的图像。
并且,在第1方式或第2方式的图像曝光装置中,本发明的第3方式的图像曝光装置中的控制部可以通过钝化掩模处理强调高频成分的浓度差。
并且,在第3方式的图像曝光装置中,本发明的第4方式的图像曝光装置的控制部可以进行根据图像显示装置的分辨率进行了加权的钝化掩模处理。
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