[发明专利]通孔填充用糊料在审

专利信息
申请号: 201980020720.5 申请日: 2019-03-04
公开(公告)号: CN111886939A 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 大山秀树;田中孝幸;林荣一 申请(专利权)人: 味之素株式会社
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42;H01F1/37;H05K1/11;H05K3/18
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 卢曼;梅黎
地址: 日本东京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 填充 糊料
【权利要求书】:

1.一种通孔填充用糊料,其是包含(A)磁性粉体、(B)环氧树脂及(C)固化剂的通孔填充用糊料,

其中,(A)磁性粉体利用表面处理剂进行了表面处理,所述表面处理剂包含选自Si、Al及Ti中的至少1种元素。

2.根据权利要求1所述的通孔填充用糊料,其中,表面处理剂为选自烷氧基硅烷、硅烷系偶联剂、铝酸酯系偶联剂及钛酸酯系偶联剂中的至少1种。

3.根据权利要求1或2所述的通孔填充用糊料,其中,(A)磁性粉体为选自氧化铁粉及铁合金系金属粉中的至少1种。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的通孔填充用糊料,其中,(A)磁性粉体的平均粒径为0.01μm以上且10μm以下。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的通孔填充用糊料,其中,(A)磁性粉体的长宽比为2以下。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的通孔填充用糊料,其中,将通孔填充用糊料中的不挥发成分设为100质量%时,(A)磁性粉体的含量为70质量%以上且98质量%以下。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的通孔填充用糊料,其中,(A)磁性粉体为氧化铁粉,该氧化铁粉为包含选自Ni、Cu、Mn及Zn中的至少1种的铁氧体。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的通孔填充用糊料,其中,(A)磁性粉体为包含选自Si、Cr、Al、Ni及Co中的至少1种的铁合金系金属粉。

9.根据权利要求1~8中任一项所述的通孔填充用糊料,其中,(B)环氧树脂包含在25℃下呈液态的环氧树脂。

10.根据权利要求1~9中任一项所述的通孔填充用糊料,其中,(C)固化剂为选自酸酐系环氧树脂固化剂、胺系固化促进剂及咪唑系固化促进剂中的至少1种。

11.一种电路基板,其包含:通孔利用权利要求1~10中任一项所述的通孔填充用糊料的固化物进行了填充的基板。

12.一种感应器部件,其包含权利要求11所述的电路基板。

13.一种电路基板的制造方法,其中,该方法依序包含以下工序:

(1)在通孔中填充通孔填充用糊料,并使该通孔填充用糊料热固化而得到固化物的工序;

(2)研磨固化物的表面的工序;及

(3)在固化物的经研磨的面上形成导体层的工序,

通孔填充用糊料包含(A)磁性粉体、(B)环氧树脂及(C)固化剂,(A)磁性粉体利用表面处理剂进行了表面处理,所述表面处理剂包含选自Si、Al及Ti中的至少1种元素。

14.根据权利要求13所述的电路基板的制造方法,其中,表面处理剂为选自烷氧基硅烷、硅烷系偶联剂、铝酸酯系偶联剂及钛酸酯系偶联剂中的至少1种。

15.根据权利要求13或14所述的电路基板的制造方法,其中,在工序(2)之后且在工序(3)之前,不包含将固化物的经研磨的面进行粗糙化处理的工序。

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