[发明专利]通孔填充用糊料在审
申请号: | 201980020720.5 | 申请日: | 2019-03-04 |
公开(公告)号: | CN111886939A | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 大山秀树;田中孝幸;林荣一 | 申请(专利权)人: | 味之素株式会社 |
主分类号: | H05K3/42 | 分类号: | H05K3/42;H01F1/37;H05K1/11;H05K3/18 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 卢曼;梅黎 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 填充 糊料 | ||
1.一种通孔填充用糊料,其是包含(A)磁性粉体、(B)环氧树脂及(C)固化剂的通孔填充用糊料,
其中,(A)磁性粉体利用表面处理剂进行了表面处理,所述表面处理剂包含选自Si、Al及Ti中的至少1种元素。
2.根据权利要求1所述的通孔填充用糊料,其中,表面处理剂为选自烷氧基硅烷、硅烷系偶联剂、铝酸酯系偶联剂及钛酸酯系偶联剂中的至少1种。
3.根据权利要求1或2所述的通孔填充用糊料,其中,(A)磁性粉体为选自氧化铁粉及铁合金系金属粉中的至少1种。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的通孔填充用糊料,其中,(A)磁性粉体的平均粒径为0.01μm以上且10μm以下。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的通孔填充用糊料,其中,(A)磁性粉体的长宽比为2以下。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的通孔填充用糊料,其中,将通孔填充用糊料中的不挥发成分设为100质量%时,(A)磁性粉体的含量为70质量%以上且98质量%以下。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的通孔填充用糊料,其中,(A)磁性粉体为氧化铁粉,该氧化铁粉为包含选自Ni、Cu、Mn及Zn中的至少1种的铁氧体。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的通孔填充用糊料,其中,(A)磁性粉体为包含选自Si、Cr、Al、Ni及Co中的至少1种的铁合金系金属粉。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的通孔填充用糊料,其中,(B)环氧树脂包含在25℃下呈液态的环氧树脂。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的通孔填充用糊料,其中,(C)固化剂为选自酸酐系环氧树脂固化剂、胺系固化促进剂及咪唑系固化促进剂中的至少1种。
11.一种电路基板,其包含:通孔利用权利要求1~10中任一项所述的通孔填充用糊料的固化物进行了填充的基板。
12.一种感应器部件,其包含权利要求11所述的电路基板。
13.一种电路基板的制造方法,其中,该方法依序包含以下工序:
(1)在通孔中填充通孔填充用糊料,并使该通孔填充用糊料热固化而得到固化物的工序;
(2)研磨固化物的表面的工序;及
(3)在固化物的经研磨的面上形成导体层的工序,
通孔填充用糊料包含(A)磁性粉体、(B)环氧树脂及(C)固化剂,(A)磁性粉体利用表面处理剂进行了表面处理,所述表面处理剂包含选自Si、Al及Ti中的至少1种元素。
14.根据权利要求13所述的电路基板的制造方法,其中,表面处理剂为选自烷氧基硅烷、硅烷系偶联剂、铝酸酯系偶联剂及钛酸酯系偶联剂中的至少1种。
15.根据权利要求13或14所述的电路基板的制造方法,其中,在工序(2)之后且在工序(3)之前,不包含将固化物的经研磨的面进行粗糙化处理的工序。
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