[发明专利]正色调可光图案化有机硅

说明书

本发明公开了一种用于制备图案化有机硅层的方法；所述方法包括如下步骤：(a)在基底上沉积包含如下物质的组合物以形成未固化树脂：(i)包含烯基基团的聚硅氧烷，(ii)包含硅‑氢键的硅烷交联剂，(iii)氢化硅烷化催化剂，以及(iv)光潜胺生成剂；(b)通过掩模将所述未固化树脂暴露于紫外光或电子束辐照以制备图案化树脂；(c)加热所述图案化树脂；以及(e)移除所述图案化树脂的未固化部分的至少一部分以制备最终图案化有机硅层。

本发明涉及一种用于能够在暴露于光的区域中移除的有机硅材料的方法。

常见的可光图案化有机硅组合物(PPS)为负色调，即，暴露于紫外光或电子束辐照的区固化并且未暴露区被移除，例如参见美国专利号9,690,197。

正色调可光图案化组合物将是可用的，其中组合物涂层的暴露于辐照的部分被阻止进行后续固化(并且因此保持可移除)，而涂层的未暴露部分保持可固化并且在后续固化时变得不可移除。如果未暴露组合物的固化时间为大约几分钟而不是几小时，则这种正色调可光图案化组合物将甚至更为理想。

发明内容

本发明解决了提供正色调可光图案化组合物的问题，其中组合物涂层的暴露于辐照的部分被阻止进行后续固化(并且因此保持可移除)，而涂层的未暴露部分保持可固化并且在后续固化时变得不可移除。此外，正色调可光图案化组合物具有大约几分钟而不是几小时的未暴露组合物的固化时间。

本发明提供一种组合物，所述组合物包含：(i)包含烯基基团的聚硅氧烷，(ii)包含硅-氢键的硅烷交联剂，(iii)氢化硅烷化催化剂，以及(iv)光潜胺生成剂；其中所述组合物包含基于组合物固体的重量的不超过5重量％的具有环氧基团的硅氧烷单元。

本发明还提供一种用于制备图案化有机硅层的方法；所述方法包括如下步骤：(a)在基底上沉积包含如下物质的组合物以形成未固化树脂：(i)包含烯基基团的聚硅氧烷，(ii)包含硅-氢键的硅烷交联剂，(iii)氢化硅烷化催化剂，以及(iv)光潜胺生成剂；(b)通过掩模将所述未固化树脂暴露于紫外光或电子束辐照以制备图案化树脂；(c)加热所述图案化树脂；以及(d)移除所述图案化树脂的未固化部分的至少一部分以制备最终图案化有机硅层。

具体实施方式

除非另外指明，百分比为重量百分比(重量％)并且温度以℃为单位。除非另外指明，否则操作在室温下进行。“有机取代基基团”包含碳和氢原子，并且还可含有选自氧、氮、硅、硫、磷、溴、氯和氟的杂原子。优选地，有机取代基基团包含不超过三个氧原子、氮原子和硅原子，优选地不超过两个、优选不超过一个、优选地无。“烃基”基团为衍生自脂族或芳族烃的取代基，其可为直链、支化或环状的并且可具有选自氯、氟、甲基、乙基、甲氧基和乙氧基的一个或多个取代基。优选地，烃基基团是未取代的。烷基基团是可以为直链或支化的饱和烃基基团。优选地，烷基基团具有一至六个碳原子，优选地一或两个。优选地，烷基基团是未取代的。芳基基团是衍生自芳族烃化合物的取代基基团，该芳族烃化合物可以是单核或多核的，并且可具有取代碳原子的多至三个氮原子、优选地不超过两个、优选地不超过一个、优选地无。除非本文另外指定，否则芳基基团可被氯基团、氟基团、甲基基团、乙基基团、甲氧基基团或乙氧基基团取代。优选地，芳基基团是未取代的。