[发明专利]一种生成校正线的方法和装置以及计算机可读记录介质有效

专利信息
申请号: 201980022609.X 申请日: 2019-03-12
公开(公告)号: CN111919087B 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 金子功次 申请(专利权)人: 塔斯米特株式会社
主分类号: G01B15/04 分类号: G01B15/04;G01N23/2251;G06T7/00;G06T7/13;H01L21/66
代理公司: 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 代理人: 刘煜
地址: 日本神奈川县横浜*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 一种 生成 校正 方法 装置 以及 计算机 可读 记录 介质
【权利要求书】:

1.一种生成校正线的方法,所述校正线表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和与所述基准图案的边缘邻接的空间的宽度的关系,所述方法的特征在于,

制作与处于所指定的区域内的基准图案邻接的空间的宽度的出现频率图,

获取与在所述出现频率图中示出的多个空间宽度对应的晶片图案的图像,所述空间宽度为将晶片图案的边缘与基准图案的边缘邻接的空间的宽度的简称,

计算所述图像上的所述晶片图案的边缘与对应的基准图案的边缘的偏离量,

将根据所述多个空间宽度与所述偏离量而确定的多个数据点标绘在坐标系上,

根据所述坐标系上的所述多个数据点而生成所述校正线。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,

所述多个数据点是多个临时数据点,

所述方法还包括如下工序:

将新数据点标绘在所述坐标系上,

根据所述坐标系上的所述多个临时数据点和所述新数据点来更新所述校正线。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,

将所述新数据点标绘在所述坐标系上的工序包括如下工序:

获取与在所述出现频率图中示出的至少1个追加的空间宽度对应的追加的晶片图案的图像,

使用所述校正线来校正与所述追加的晶片图案对应的基准图案的边缘的位置,

基于校正了所述边缘的位置的所述基准图案,检测所述图像上的所述追加的晶片图案的边缘,

计算所检测到的所述边缘与校正之前的所述基准图案的边缘的偏离量,

将根据所述追加的空间宽度与所检测到的所述边缘的偏离量而确定的新数据点标绘在所述坐标系上。

4.根据权利要求2或者3所述的方法,其特征在于,

重复进行将所述新数据点标绘在所述坐标系上的工序和更新所述校正线的工序。

5.一种生成校正线的装置,所述校正线表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和与所述基准图案的边缘邻接的空间的宽度的关系,所述装置的特征在于,

所述装置构成为:

制作与处于所指定的区域内的基准图案邻接的空间的宽度的出现频率图,

获取与在所述出现频率图中示出的多个空间宽度对应的晶片图案的图像,所述空间宽度为将晶片图案的边缘与基准图案的边缘邻接的空间的宽度的简称,

计算所述图像上的所述晶片图案的边缘与对应的基准图案的边缘的偏离量,

将根据所述多个空间宽度与所述偏离量而确定的多个数据点标绘在坐标系上,

根据所述坐标系上的所述多个数据点而生成校正线。

6.一种非暂时性的计算机可读记录介质,其特征在于,记录有用于使计算机执行如下步骤的程序:

制作与处于所指定的区域内的基准图案邻接的空间的宽度的出现频率图的步骤;

获取与在所述出现频率图中示出的多个空间宽度对应的晶片图案的图像的步骤,所述空间宽度为将晶片图案的边缘与基准图案的边缘邻接的空间的宽度的简称;

计算所述图像上的所述晶片图案的边缘与对应的基准图案的边缘的偏离量的步骤;

将根据所述多个空间宽度与所述偏离量而确定的多个数据点标绘在坐标系上的步骤;以及

根据所述坐标系上的所述多个数据点而生成校正线的步骤,所述校正线表示晶片图案的边缘与基准图案的边缘的偏离量和与所述基准图案的边缘邻接的空间的宽度的关系。

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