[发明专利]具有长运动能力的精确动态调平机构

说明书

本文描述的实施例涉及用于在处理内重复定位基座的精确动态调平机构。精密动态调平机构包括轴承组件。具有抵靠基座组件支架的内座圈和抵靠导向配接器的外座圈的轴承组件在内座圈与外座圈之间提供标称间隙，以允许内座圈和外座圈在最小或没有径向运动的情况下彼此滑动。

技术领域

本公开的实施例一般涉及用于在处理腔室内处理基板的设备。

背景技术

当改善在基板表面上执行的处理的均匀性时，大多数半导体组件形成处理得到改善。可影响沉积、蚀刻或热处理工艺的均匀性的参数中的一个是在处理期间基板相对于在处理腔室中发现的腔室部件中的一个或多个(诸如喷头)的位置。结果是，处理系统通常设计成在处理步骤中的一个或多个期间相对于处理腔室中的腔室部件中的一个或多个提供均匀和可重复的基板放置。

氧化物和氮化物化学气相沉积工艺各自对基座相对于腔室部件中的一个或多个(诸如喷头)的倾斜和位置具有不同的均匀性响应。这些材料以层迭氧化物和氮化物薄膜的交替工艺沉积在同一腔室中。为了确保最佳的工艺结果，每一层需要相对于喷头的独立调整的基座倾斜和位置，以达成最佳的工艺结果。目前，基座位置和定向无法自动以预定的位置分辨率来移动。

因此，需要一种精确动态调平机构，用于以改善的位置分辨率将基座重复地定位在处理腔室内。

发明内容

在一个实施例中，提供了一种提升组件。提升组件包括：底部托架；基座组件支架，所述基座组件支架被配置为支撑包括杆和基座的基座组件；以及三个或更多个伺服电动机组件，所述伺服电动机组件每一个经由枢轴关节附接到底部托架并通过三个或更多个轴承组件附接到基座组件支架。每个轴承组件包括：导向配接器，所述导向配接器连接到导向致动器和提升组件的基座组件支架；以及螺栓和弹簧，所述螺栓和所述弹簧插入穿过导向配接器中的凹槽，以将轴承连接到基座组件支架。轴承具有内座圈和外座圈。内座圈抵靠基座组件支架，并且外座圈抵靠导向配接器。

在另一个实施例中，提供了一种球形推力轴承组件。球形推力轴承组件包括：导向配接器，所述导向配接器连接到导向致动器和提升组件的基座组件支架。提升组件包括：底部托架；基座组件支架，所述基座组件支架被配置为支撑包括杆和基座的基座组件；以及三个或更多个伺服电动机组件。每个伺服电动机组件经由枢轴关节附接到底部托架并通过轴承组件附接到基座组件支架。螺栓和弹簧插入穿过导向配接器中的凹槽，以将轴承连接到基座组件支架。轴承具有内座圈和外座圈。内座圈抵靠基座组件支架，并且外座圈抵靠导向配接器。

在又一个实施例中，提供了一种腔室。腔室包括：腔室盖；多个腔室壁；腔室底部；处理区域，所述处理区域由腔室盖、多个腔室壁和腔室底部来限定。腔室也包括提升组件。提升组件包括：底部托架；基座组件支架，所述基座组件支架被配置为支撑包括杆和基座的基座组件；三个或更多个伺服电动机组件，所述伺服电动机组件每一个经由枢轴关节附接到底部托架并通过三个或更多个轴承组件附接到基座组件支架。杆定位穿过腔室底部和底部托架的开口，并且基座设置在处理区域中。每个轴承组件包括：导向配接器，所述导向配接器连接到导向致动器和提升组件的基座组件支架；以及螺栓和弹簧，所述螺栓和所述弹簧插入穿过导向配接器中的凹槽，以将轴承连接到基座组件支架。轴承具有内座圈和外座圈。内座圈抵靠基座组件支架，并且外座圈抵靠导向配接器。

附图说明

因此，可详细地理解本公开的上述特征的方式，可通过参考实施例获得上文简要概述的本公开的更具体的描述，其中一些实施例在附图中示出。然而，应注意的是，附图仅示出了示例性实施例，且因此不应被视为对范围的限制，因为本公开可允许其他同等有效的实施例。

图1是根据一个实施例的化学气相沉积系统的示意性横截面视图。

图2A是根据一个实施例的提升组件的示意性横截面视图。

图2B是根据一个实施例的轴承组件的示意性横截面视图。