[发明专利]真空加热装置、反射器装置有效
申请号: | 201980029651.4 | 申请日: | 2019-08-26 |
公开(公告)号: | CN112041627B | 公开(公告)日: | 2022-07-05 |
发明(设计)人: | 阪上弘敏;大野哲宏 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | F27B17/00 | 分类号: | F27B17/00;F27D7/06;F27D11/02;H01L21/26 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 朱美红;司昆明 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 加热 装置 反射 | ||
提供一种具有不发生由热伸长带来的损伤的反射器装置的真空加热装置。将被行列配置的多个单位反射板(31)通过固定装置(21)和保持装置(11a~11d)分别安装于真空槽(17)的安装面(19)。如果在各单位反射板(31)被照射红外线,则随着保持装置(11a~11d)的变形部(64)的变形,各单位反射板(31)以固定装置(21)的安装场所为中心而热伸长。通过热伸长,向各单位反射板(31)附加的力被缓和,防止了各单位反射板(31)被安装于安装面(19)的部位的损伤。
技术领域
本发明涉及在真空环境中将加热对象物用红外线加热的技术,特别涉及将红外线反射的反射器装置和具有该反射器装置的真空加热装置。
背景技术
广泛地进行真空处理,所述真空处理以半导体基板或玻璃基板等为处理对象物,在真空环境中在处理对象物的表面形成薄膜,或将形成的薄膜在真空环境中蚀刻处理,在即将进行真空处理之前,设置了使处理对象物升温到规定温度、使真空处理的反应性提高的加热前处理工序。
此外,如果在真空环境中将处理对象物加热,则附着于处理对象物的有机物及水分在真空环境中蒸发,进行处理对象物的清洁。
因为温度控制性较好,所以通过红外线照射进行这样的处理对象物的加热的情况较多,为了使向真空槽的红外线照射遮断,在真空槽的壁面与红外线照射装置之间配置反射器,而构成为使得真空槽不升温。
可是,为了使制造成本下降,处理对象物越来越大型化,随之真空槽也大型化,但如果反射器大型化,则由热带来的线膨胀量变大,在反射器或反射器安装部等发生变形或发生安装不良等的弊病变大。
近年来,尝试了将多个单位反射板行列配置而构成一台反射器的反射器装置的开发,但如果将单位反射板仅在一个部位固定而构成为使其不变形而能够热膨胀,则单位反射板的边缘附近的下垂量变大,在单位反射板之间发生热泄漏。
此外,如果为了防止热泄漏而将单位反射板的边缘附近重叠,则在热膨胀时下垂的边缘附近彼此滑动,大量地产生灰尘。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平10-19386号公报。
发明内容
发明要解决的课题
本发明是为了解决上述以往技术的不合适之处而创作的发明,其要解决的课题在于提供在反射器板没有变形及下垂的反射器装置和设有该反射器装置的真空加热装置。
用来解决课题的手段
本发明是一种真空加热装置,具有:真空槽,被真空排气;加热源,被配置在前述真空槽的内部,放射红外线而将加热对象物加热;以及反射器装置,被配置在前述真空槽的内部,具有将被从前述加热源放射并朝向前述真空槽的内壁面中的安装面的红外线遮蔽的多个单位反射板;前述单位反射板被沿着前述安装面配置,前述反射器装置具有:多个固定装置,一端被固定于前述真空槽的前述安装面,另一端被固定于前述单位反射板;以及多个保持装置,一端被固定于前述真空槽的前述安装面,另一端被固定于前述单位反射板;前述固定装置被固定于前述安装面的场所与被固定于前述单位反射板的场所之间的相对的位置通过前述固定装置而被固定,前述保持装置具有能够变形的变形部,构成为,前述保持装置被固定于前述安装面的场所与被固定于前述单位反射板的场所之间的相对的位置关系通过前述变形部的变形而被变更。
此外,本发明是一种真空加热装置,当前述单位反射板被加热而热伸长时,前述变形部被变形,前述保持装置被固定于前述安装面的场所与被固定于前述单位反射板的场所之间的相对的位置关系被变更。
此外,本发明是一种真空加热装置,前述变形部是板簧,前述板簧被配置在通过前述单位反射板的热伸长而被附加与前述板簧的表面垂直的方向的力的朝向。
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