[发明专利]用于与金属配位的化合物、含有此类化合物的组合物和催化反应的方法

权利要求书

1.一种能够与金属配位的化合物，其包含由式(II)-B表示的化学结构，

其中，EPD表示包含电子对供体原子的基团；

B和B'各自独立地是芳基、杂芳基、烯基或炔基，或者B和B'一起形成螺环基，该螺环基包含直接键合至2位的氮或硫原子；

R₁和R₂各自独立地包含羟基、烷基、芳基、卤代烷基、烷氧基、氨基、含氮杂环基、烷硫基、芳硫基、芳氧基、芳烷基、腈基、硝基、甲酰基、羧酸基、酮基、酯基、羧酸酯基、卤素基、包含硅氧烷的基团、烯基、炔基、螺环基或其任何组合，或者R₁和R₂一起形成环烷基或杂环基；以及

每个R₃独立地包含羟基、烷基、芳基、卤代烷基、烷氧基、氨基、含氮杂环基、烷硫基、芳硫基、芳氧基、芳烷基、腈基、硝基、甲酰基、羧酸基、酮基、酯基、羧酸酯基、卤素基、包含硅氧烷的基团、烯基、炔基或其任何组合；

m和n各自独立地是选自0至2的数；以及

p是选自0至3的数。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中式(II)-B的EPD包含氮原子、氧原子、磷原子、碳烯或环状环，所述环状环包含氮原子、氧原子和/或磷原子中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的化合物，其中位于5-7位的每个碳原子的取代基独立地包含羟基、烷基、芳基、卤代烷基、烷氧基、氨基、含氮杂环基、烷硫基、芳硫基、芳氧基、芳烷基、腈基、硝基、甲酰基、羧酸基、酮基、酯基、羧酸酯基、卤素基、包含硅氧烷的基团、烯基、炔基或其任何组合，或其中5-7位中的一个处的碳原子的取代基与相邻的碳原子的取代基形成稠环。

4.根据权利要求1所述的化合物，其中所述化合物由式(III)-B表示，

其中，EPD表示包含电子对供体原子的基团；

R₁和R₂各自独立地包含羟基、烷基、芳基、卤代烷基、烷氧基、氨基、含氮杂环基、烷硫基、芳硫基、芳氧基、芳烷基、腈基、硝基、甲酰基、羧酸基、酮基、酯基、羧酸酯基、卤素基、包含硅氧烷的基团、烯基、炔基、螺环基或其任何组合，或者R₁和R₂一起形成环烷基或杂环基；

每个R₃独立地包含羟基、烷基、芳基、卤代烷基、烷氧基、氨基、含氮杂环基、烷硫基、芳硫基、芳氧基、芳烷基、腈基、硝基、甲酰基、羧酸基、酮基、酯基、羧酸酯基、卤素基、包含硅氧烷的基团、烯基、炔基或其任何组合；

每个R₄是氢，或者每个R₄一起形成稠合芳基环；

R₅是氢或烷基；

X是C(Me)₂、O、N-R₅或S，其中Me是甲基；

m和n各自独立地是选自0至2的数；以及

p是选自0至3的数。

5.根据权利要求4所述的化合物，其中R₂包含被两个与B和B'相同的取代基取代的烯基，且n是1。