[发明专利]用于与金属配位的化合物、含有此类化合物的组合物和催化反应的方法

说明书

一种能够与金属配位的化合物包括如权利要求1中所示的化学结构，其中：EPD表示具有电子对供体原子的基团；B和B′各自独立地是芳基、杂芳基、烯基或炔基，或B和B′形成螺环基；且Rsubgt;1/subgt;、Rsubgt;2/subgt;和Rsubgt;3/subgt;选自各种取代基。

技术领域

本发明涉及包括潜伏催化剂的组合物和使用潜伏催化剂催化反应的方法。

背景技术

催化剂通常被加入到组合物中以引发或提高形成此类组合物的一部分的反应性材料之间的反应速率。例如，涂料组合物常常含有催化剂，其有助于提高形成最终涂料的至少一部分粘合剂的一种或多种反应性材料之间的反应速率。然而，虽然此类催化剂有助于提高反应性材料之间的反应速率，但它们也降低了组合物的贮存期期，即混合的组合物保持稳定并适于其预期用途例如作为涂料的时间段。因此，希望提供具有能够提高形成组合物的至少一部分的一种或多种反应性材料之间的反应速率的催化剂的涂料组合物，并且其还提供在施加之前延长的贮存期。

发明内容

本发明涉及一种能够与金属配位的化合物，其包含由式(II)-B表示的化学结构，

关于式(II)-B，EPD表示包含电子对供体原子的基团；B和B′各自独立地是芳基、杂芳基、烯基或炔基，或者B和B′一起形成螺环基；R₁和R₂各自独立地包含羟基、烷基、芳基、卤代烷基、烷氧基、氨基、含氮杂环基、烷硫基、芳硫基、芳氧基、芳烷基、腈基、硝基、甲酰基、羧酸基、酮基、酯基、羧酸酯基、卤素基、包含硅氧烷的基团、烯基、炔基、螺环基或其任何组合，或者R₁和R₂一起形成环烷基或杂环基；以及m和n各自独立地是选自0至2的数。进一步地，每个R₃独立地包含羟基、烷基、芳基、卤代烷基、烷氧基、氨基、含氮杂环基、烷硫基、芳硫基、芳氧基、芳烷基、腈基、硝基、甲酰基、羧酸基、酮基、酯基、羧酸酯基、卤素基、包含硅氧烷的基团、烯基、炔基或其任何组合；以及p是选自0至3的数。

本发明还涉及一种组合物，其包含：a)反应性材料，其包含以下中的至少一种：i)一种或多种阳离子可聚合组分；和ii)活性氢官能的第一组分，和与第一组分的活性氢基团反应的第二组分；以及b)潜伏催化剂。潜伏催化剂包含由包含以下的组分形成的反应产物：配体；和足以催化反应性材料的金属化合物。进一步地，该配体是由下式(I)-B表示的化合物衍生的，

关于式(I)-B，EPD表示包含电子对供体原子的基团；Z包含碳或氮；B和B′各自独立地是芳基、杂芳基、烯基或炔基，或者B和B′一起形成螺环基；R₁和R₂各自独立地包含羟基、烷基、芳基、卤代烷基、烷氧基、氨基、含氮杂环基、烷硫基、芳硫基、芳氧基、芳烷基、腈基、硝基、甲酰基、羧酸基、酮基、酯基、羧酸酯基、卤素基、包含硅氧烷的基团、烯基、炔基、螺环基或其任何组合，或者R₁和R₂一起形成环烷基、杂环基、芳族或杂芳族基；在3位和4位之间的键是单键或双键，条件是当在3位和4位之间的键是单键时Z是碳；以及m和n各自独立地是选自0至2的数。进一步地，每个R₃独立地包含羟基、烷基、芳基、卤代烷基、烷氧基、氨基、含氮杂环基、烷硫基、芳硫基、芳氧基、芳烷基、腈基、硝基、甲酰基、羧酸基、酮基、酯基、羧酸酯基、卤素基、包含硅氧烷的基团、烯基、炔基或其任何组合；以及p是选自0至3的数。

本发明还涉及一种催化反应的方法，包含照射组合物，所述组合物包含：a)反应性材料，其包含以下中的至少一种：i)一种或多种阳离子可聚合组分；和ii)活性氢官能的第一组分，和与第一组分的活性氢基团反应的第二组分；以及b)潜伏催化剂。潜伏催化剂包含由包含以下的组分形成的反应产物：配体；和足以催化反应性材料的金属化合物。进一步地，该配体是由下式(I)-B表示的化合物衍生的，