[发明专利]聚氨酯的改性方法、聚氨酯、抛光垫及抛光垫的改性方法

权利要求书

1.一种聚氨酯的改性方法，该方法包括：

准备具有烯属不饱和键的聚氨酯的工序；以及

用含有具有共轭双键及官能团的化合物的液体对所述聚氨酯进行处理，使所述烯属不饱和键与所述共轭双键进行反应，得到导入了所述官能团的聚氨酯的工序，所述官能团选自羧酸基、羟基、以及氨基。

2.根据权利要求1所述的聚氨酯的改性方法，其中，

所述聚氨酯包含来自于具有烯属不饱和键的化合物的聚合物结构单元。

3.根据权利要求2所述的聚氨酯的改性方法，其中，

所述具有烯属不饱和键的化合物包含选自顺-2-丁烯-1,4-二醇、4,5-双(羟甲基)咪唑、5-降冰片烯-2,3-二甲醇、顺-2-壬烯-1-醇、顺-3-壬烯-1-醇、顺-3-辛烯-1-醇、聚丁二烯二醇中的至少1种化合物。

4.一种聚氨酯的改性方法，该方法包括：

准备具有共轭双键的聚氨酯的工序；以及

用含有具有烯属不饱和键及官能团的化合物的液体对所述聚氨酯进行处理，使所述共轭双键与所述烯属不饱和键进行反应，得到导入了所述官能团的聚氨酯的工序，

所述官能团选自羧酸基、羟基、以及氨基。

5.根据权利要求4所述的聚氨酯的改性方法，其中，

所述聚氨酯为包含来自于具有共轭双键的化合物的聚合物结构单元的聚氨酯。

6.根据权利要求5所述的聚氨酯的改性方法，其中，

所述具有共轭双键的化合物包含选自4,5-双(羟甲基)咪唑、4-羟甲基-5-甲基咪唑、聚呋喃二甲酸乙二醇酯中的至少1种化合物。

7.一种抛光垫，其包含聚氨酯，所述聚氨酯是使具有共轭双键及官能团的化合物与具有烯属不饱和键的聚氨酯的所述烯属不饱和键进行加成反应而导入了所述官能团的聚氨酯，

所述官能团选自羧酸基、羟基、以及氨基。

8.根据权利要求7所述的抛光垫，其中，所述官能团为羧酸基。

9.根据权利要求8所述的抛光垫，其至少在抛光面包含导入了所述羧酸基的所述聚氨酯，且在pH3.0下的zeta电位为-1.0mV以下。

10.根据权利要求7所述的抛光垫，其中，所述具有烯属不饱和键的聚氨酯包含来自于具有烯属不饱和键的化合物的聚合物结构单元，

所述具有烯属不饱和键的化合物包含选自顺-2-丁烯-1,4-二醇、4,5-双(羟甲基)咪唑、5-降冰片烯-2,3-二甲醇、顺-2-壬烯-1-醇、顺-3-壬烯-1-醇、顺-3-辛烯-1-醇、以及聚丁二烯二醇中的至少1种化合物。

11.一种抛光垫，其包含聚氨酯，所述聚氨酯是使具有烯属不饱和键及官能团的化合物与具有共轭双键的聚氨酯的所述共轭双键进行加成反应而导入了所述官能团的聚氨酯，

所述官能团选自羧酸基、羟基、以及氨基。

12.根据权利要求11所述的抛光垫，其中，所述官能团为羧酸基。

13.根据权利要求12所述的抛光垫，其至少在抛光面包含导入了所述羧酸基的所述聚氨酯，且在pH3.0下的zeta电位为-1.0mV以下。

14.根据权利要求11所述的抛光垫，其中，所述具有共轭双键的聚氨酯包含来自于具有共轭双键的化合物的聚合物结构单元，

所述具有共轭双键的化合物包含选自4,5-双(羟甲基)咪唑、4-羟甲基-5-甲基咪唑、以及聚呋喃二甲酸乙二醇酯中的至少1种化合物。