[发明专利]图案形成材料及固化膜、及固化图案的制造方法在审
| 申请号： | 201980032106.0 | 申请日： | 2019-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN112105991A | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 山田骏介;狩野佑介;樱井宏子;中岛道也 | 申请（专利权）人： | DIC株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;C08F299/02;C08L33/02;C08L35/00;G03F7/027;G03F7/20;H05K3/28 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 图案 形成 材料 固化 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种图案形成材料，其含有：具有聚合性双键的含酸基树脂、和锂部分固定型蒙皂石。
2.根据权利要求1所述的图案形成材料，其中，所述含酸基树脂包含(甲基)丙烯酰基。
3.根据权利要求1或2所述的图案形成材料，其中，所述酸基为选自由羧基、磺酸基及磷酸基组成的组中的至少一种。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的图案形成材料，其中，所述含酸基树脂的重均分子量为1000～20000。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的图案形成材料，其中，所述锂部分固定型蒙皂石的阳离子交换容量为1～70meq/100g。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的图案形成材料，其中，所述锂部分固定型蒙皂石的含量相对于所述图案形成材料中的不挥发成分总量为3～70质量％。
7.一种固化膜，其包含权利要求1～6中任一项所述的图案形成材料的固化物。
8.根据权利要求7所述的固化膜，其形成为图案状。
9.根据权利要求7或8所述的固化膜，其为抗蚀膜。
10.一种固化图案的制造方法，其具备：
使由权利要求1～6中任一项所述的图案形成材料形成的膜的一部分固化的工序；和
在所述工序后，将所述膜的未固化部分去除而得到固化图案的工序。
11.根据权利要求10所述的固化图案的制造方法，其中，使所述膜的一部分固化的工序包括对所述膜以图案状照射活性能量射线的工序。
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