[发明专利]光烧结型组合物和使用其的导电膜的形成方法有效

专利信息
申请号: 201980032593.0 申请日: 2019-04-17
公开(公告)号: CN112166476B 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: 德武茉里;阿部真二 申请(专利权)人: 日本化学工业株式会社
主分类号: H01B1/22 分类号: H01B1/22;B22F3/10;B22F9/00;H01B1/02;H01B13/00
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 烧结 组合 使用 导电 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种光烧结型组合物,其特征在于,包含:

含有570ppm~10000ppm的锡的氧化亚铜颗粒;20℃的体积电阻率为1.0×10-3Ω·cm以下的金属颗粒;和溶剂,

所述金属颗粒与所述氧化亚铜颗粒的质量比为90﹕10~60﹕40。

2.如权利要求1所述的光烧结型组合物,其特征在于:

所述金属颗粒为选自金、银、铜、锌、锡、铝、镍、钴和锰中的至少1种的金属颗粒。

3.如权利要求1或2所述的光烧结型组合物,其特征在于:

还包含粘合剂树脂。

4.如权利要求1或2所述的光烧结型组合物,其特征在于:

所述氧化亚铜颗粒和所述金属颗粒的合计含量为10质量%~90质量%,并且,所述溶剂的含量为10质量%~90质量%。

5.如权利要求3所述的光烧结型组合物,其特征在于:

所述氧化亚铜颗粒和所述金属颗粒的合计含量为10质量%~90质量%,并且,所述溶剂和所述粘合剂树脂的合计含量为10质量%~90质量%。

6.一种导电膜的形成方法,其特征在于,包括:

将权利要求1~5中任一项所述的光烧结型组合物涂布于基材而形成涂膜的工序;和

通过对所述涂膜照射光而使所述涂膜中的氧化亚铜颗粒还原的工序。

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