[发明专利]用于原位夹具表面粗糙化的装置和方法在审

专利信息
申请号: 201980034220.7 申请日: 2019-05-14
公开(公告)号: CN112154377A 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: E·佐丹 申请(专利权)人: ASML控股股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/68;H01L21/683;B24B27/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨飞
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 原位 夹具 表面 粗糙 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种装置,包括:

衬底基座;

多个磨料元件,所述磨料元件中的每个磨料元件通过相应联接元件机械地联接到所述衬底基座。

2.根据权利要求1所述的装置,其中所述衬底基座包括掩模版基座。

3.根据权利要求1所述的装置,进一步其中相应磨料元件中的每个相应磨料元件包括压电元件,所述压电元件被布置成在控制单元的控制下横向地移动所述相应磨料元件。

4.根据权利要求1所述的装置,其中所述相应联接元件中的每个联接元件包括相应挠曲件。

5.根据权利要求4所述的装置,其中每个相应挠曲件都被预装载。

6.根据权利要求4所述的装置,其中每个相应挠曲件在基本上垂直于所述衬底基座的方向上具有低的弹簧常数。

7.根据权利要求4所述的装置,其中每个相应挠曲件在基本上垂直于所述衬底基座的方向上具有在约50N/m至约5000N/m的范围内的弹簧常数。

8.根据权利要求1所述的装置,其中所述多个磨料元件中的所述每个磨料元件具有基本上相同的形状和大小。

9.根据权利要求1所述的装置,其中所述多个磨料元件以阵列方式被布置。

10.根据权利要求9所述的装置,其中所述阵列是有序阵列。

11.根据权利要求9所述的装置,其中所述阵列基本上覆盖所述衬底基座。

12.根据权利要求1所述的装置,其中所述磨料元件中的每个磨料元件包括陶瓷材料。

13.根据权利要求1所述的装置,其中针对所述磨料元件中的每个磨料元件,所述磨料元件与所述衬底基座之间的距离被止挡件限制。

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