[发明专利]杀孢子方法及组合物

权利要求书

1.减少由内生孢子或形成孢子的微生物对底物的污染的方法，所述方法包括在不存在过氧化物分解酶的情况下，使底物与以约1.2至30.0的重量百分比包含过羧酸和过氧化氢的组合物接触足够长时间以减少污染。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述内生孢子由选自千叶类芽孢杆菌(Paenibacillus chibensis)、Paenibacillus favisporus、蜡样芽孢杆菌(Bacilluscereus)、萎缩芽孢杆菌(Bacillus atrophaeus)、枯草芽孢杆菌(Bacillus subtilis)，和嗜热脂肪芽孢杆菌(Geobacillus stearothermophilus)或其组合的微生物产生。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述形成孢子的微生物选自千叶类芽孢杆菌、Paenibacillus favisporus、蜡样芽孢杆菌、萎缩芽孢杆菌、枯草芽孢杆菌，和嗜热脂肪芽孢杆菌或其组合。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述底物包含选自金属、塑料、陶瓷、玻璃、木材、橡胶、复合材料或其组合的材料。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述底物是包括医疗装置、食物或饮料制备设备、药品生产设备或食品。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述过羧酸是C₁-C₁₀过羧酸。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述过羧酸是过乙酸。

8.根据权利要求1所述的方法，其中过羧酸与过氧化氢的重量百分比为约1.2、1.6、1.8、2.0、2.2、2.4、2.5、2.6、2.8、3.0、3.2、3.4、3.6、3.8、4.0、4.2、4.4、4.6、4.8、5.0、5.2、5.4、5.6、5.8或6.0。

9.根据权利要求1所述的方法，其中过羧酸与过氧化氢的重量百分比为约1.2、1.8、2.4、3.0、3.4、4.0、4.6、4.8或5.0。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述过氧化物分解酶是过氧化氢酶。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述接触步骤包括浸渍、喷涂、浸没或浸泡。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述组合物的氧化还原电位(ORP)为约500mV至约1000mV。

13.根据权利要求1所述的方法，其中所述接触步骤为约3秒至约60秒。

14.根据权利要求1所述的方法，其中所述内生孢子污染减少约1个Log₁₀。

15.根据权利要求1所述的方法，其中所述内生孢子污染减少约90％。

16.减少由内生孢子或形成孢子的微生物对底物的污染的方法，所述方法包括在不存在过氧化物分解酶的情况下，使底物与氧化还原电位(ORP)大于约500mV的包含过羧酸和过氧化氢的组合物接触足够长时间以减少污染。

17.处理被内生孢子污染或有内生孢子污染风险的底物的方法，所述方法包括：

a)制备包含过羧酸和过氧化氢的溶液；

b)调节所述过羧酸和所述过氧化氢的浓度，以提供大于500mV的氧化还原电位(ORP)；和

c)在不存在过氧化物分解酶的情况下，使所述底物与步骤b的溶液接触足够长的时间，以减少所述内生孢子污染，其中在所述接触步骤期间持续监测所述ORP。