[发明专利]氟系溶剂含有物的纯化方法和含氟系溶剂纯化物在审

专利信息
申请号: 201980037745.6 申请日: 2019-07-25
公开(公告)号: CN112236216A 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 菅原充;太田圭祐;叶内政信 申请(专利权)人: 日本瑞翁株式会社
主分类号: B01D61/14 分类号: B01D61/14;B01D71/36;C07C23/08;C07C29/74;H01L21/304
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 杨卫萍;刘继富
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 溶剂 含有 纯化 方法 含氟系
【权利要求书】:

1.一种氟系溶剂含有物的纯化方法,其包含使用由包含氟原子的材料形成的过滤器过滤至少包含氟系溶剂的氟系溶剂含有物的过滤工序,过滤所述氟系溶剂含有物时的所述过滤器的单位有效过滤面积的通液速度小于0.2mL/分钟·cm2

2.根据权利要求1所述的氟系溶剂含有物的纯化方法,其中,所述过滤器的孔径为30nm以下。

3.根据权利要求1或2所述的氟系溶剂含有物的纯化方法,其中,所述氟系溶剂包含选自氢氟醚类、氢氟氯烯烃类及氢氟烃类中的1种以上的氟系溶剂。

4.根据权利要求1~3中任1项所述的氟系溶剂含有物的纯化方法,其中,所述氟系溶剂包含1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷。

5.根据权利要求1~4中任1项所述的氟系溶剂含有物的纯化方法,其中,所述氟系溶剂含有物包含选自二醇醚类、二醇醚乙酸酯类、醇类、酮类、碳酸酯类、酯类及内酯类中的1种以上的有机溶剂。

6.根据权利要求1~5中任1项所述的氟系溶剂含有物的纯化方法,其中,所述氟系溶剂含有物还包含醇类。

7.根据权利要求6所述的氟系溶剂含有物的纯化方法,其中,所述醇类包含碳原子数为5以下的醇。

8.根据权利要求6或7所述的氟系溶剂含有物的纯化方法,其中,所述醇类包含叔戊醇。

9.根据权利要求1~8中任1项所述的氟系溶剂含有物的纯化方法,其中,所述包含氟原子的材料是由包含选自四氟乙烯单元、氯三氟乙烯单元、偏二氟乙烯单元、全氟烷基乙烯基醚单元及六氟丙烯单元中的至少1种含氟单体单元的聚合物形成的。

10.根据权利要求1~9中任1项所述的氟系溶剂含有物的纯化方法,其中,所述过滤器的孔径为20nm以下。

11.一种含氟系溶剂纯化物,其为至少包含氟系溶剂的含氟系溶剂纯化物,所述含氟系溶剂纯化物中的粒径为30nm以上的微粒数为100个/mL以下。

12.根据权利要求11所述的含氟系溶剂纯化物,其中,所述氟系溶剂包含选自氢氟醚类、氢氟氯烯烃类及氢氟烃类中的1种以上的氟系溶剂。

13.根据权利要求11或12所述的含氟系溶剂纯化物,其中,所述氟系溶剂包含1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷。

14.根据权利要求11~13中任1项所述的含氟系溶剂纯化物,其包含选自二醇醚类、二醇醚乙酸酯类、醇类、酮类、碳酸酯类、酯类及内酯类中的1种以上的有机溶剂。

15.根据权利要求11~14中任1项所述的含氟系溶剂纯化物,其还包含醇类。

16.根据权利要求15所述的含氟系溶剂纯化物,其中,所述醇类包含碳原子数为5以下的醇。

17.根据权利要求15或16所述的含氟系溶剂纯化物,其中,所述醇类包含叔戊醇。

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