[发明专利]氟系溶剂含有物的纯化方法和含氟系溶剂纯化物

说明书

本发明提供一种用于减少氟系溶剂含有物中包含的微粒的纯化方法、以及微粒被减少了的含氟系溶剂纯化物。氟系溶剂含有物的纯化方法包含使用由包含氟原子的材料形成的过滤器过滤至少包含氟系溶剂的氟系溶剂含有物的过滤工序，过滤氟系溶剂含有物时的上述过滤器的单位有效过滤面积的通液速度小于0.2mL/分钟·cm²。

技术领域

本发明涉及氟系溶剂含有物的纯化方法和含氟系溶剂纯化物，特别涉及用于减少氟系溶剂含有物中的微粒的氟系溶剂含有物的纯化方法和微粒被减少了的含氟系溶剂纯化物。

背景技术

在进行半导体设备的制造、清洗时，使用减少了微粒等杂质的有机溶剂。因此，作为用于除去有机溶剂中的金属杂质的装置，专利文献1中提出了具有包括过滤器的过滤单元和金属吸附单元的有机溶剂的纯化装置。

此外，从降低环境负荷的观点出发，将包含氟系溶剂的有机溶剂用于上述半导体设备的制造、清洗。而且，在专利文献2中，提出了使用由不具有氟原子的材料形成的过滤器来过滤氟系溶剂的氟系溶剂的纯化方法。根据该纯化方法，能够有效地除去氟系溶剂所包含的粒径为200nm以上的微粒。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-73922号公报；

专利文献2：日本特开2005-239615号公报。

发明内容

发明要解决的问题

然而，近年来，随着半导体设备的高密度化发展，关于在半导体设备的制造、清洗中使用的有机溶剂、特别是包含氟系溶剂的有机溶剂，在减少该有机溶剂中包含的微粒、特别是粒径为100nm以下的微粒的方面，仍有改善的余地。

因此，本发明的目的在于提供一种氟系溶剂含有物的纯化方法，其为至少包含氟系溶剂的氟系溶剂含有物的纯化方法，可用于减少该氟系溶剂含有物中的微粒。

此外，本发明的目的在于提供一种微粒被减少了的含氟系溶剂纯化物，其为至少包含氟系溶剂的含氟系溶剂纯化物。

用于解决问题的方案

本发明人等为了实现上述目的进行了深入研究。然后，本发明人发现，为了有效地除去特别是粒径为100nm以下的微粒，如果适当地使用由包含氟原子的材料形成的过滤器、并且使用该过滤器在规定的条件下进行过滤，则能够有效地除去特别是粒径为30nm以上且100nm以下的微粒，从而完成了本发明。

即，本发明以有利地解决上述问题为目的，本发明的氟系溶剂含有物的纯化方法的特征在于，包含使用由包含氟原子的材料形成的过滤器过滤至少包含氟系溶剂的氟系溶剂含有物的过滤工序，过滤上述氟系溶剂含有物时的上述过滤器的单位有效过滤面积的通液速度小于0.2mL/分钟·cm²。如果像这样使用由包含氟原子的材料形成的过滤器在规定的条件下过滤至少包含氟系溶剂的氟系溶剂含有物，则可得到有效地减少了特别是粒径为100nm以下的微粒的含氟系溶剂纯化物。

另外，在本发明中，“过滤器的单位有效过滤面积的通液速度”能够通过本说明书的实施例记载的方法求出。

在此，在本发明的氟系溶剂含有物的纯化方法中，上述过滤器的孔径优选为30nm以下。如果使用孔径为30nm以下的过滤器，则能够有效地除去氟系溶剂含有物中的粒径超过30nm的微粒，因此能够得到进一步减少了微粒的含氟系溶剂纯化物。

此外，在本发明的氟系溶剂含有物的纯化方法中，上述氟系溶剂优选包含选自氢氟醚类、氢氟氯烯烃(Hydrofluorochloroolefin)类及氢氟烃(Hydrofluorocarbon)类中的1种以上的氟系溶剂。如果包含选自上述中的1种以上作为氟系溶剂，则通过本发明的氟系溶剂含有物的纯化方法能够得到进一步降低了环境负荷的含氟系溶剂纯化物。