[发明专利]用于制造器件的方法在审
申请号: | 201980038368.8 | 申请日: | 2019-09-18 |
公开(公告)号: | CN112236880A | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
发明(设计)人: | 金勇男;金钟硕;咸允慧;金世龙 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | H01L51/00 | 分类号: | H01L51/00;H01L51/42 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 顾晋伟;冷永华 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 器件 方法 | ||
本说明书涉及用于制造器件的方法,所述方法包括以下步骤:制备包括第一缓冲层和第二缓冲层的第一层合体;制备包括设置在碳电极上的第三缓冲层的第二层合体;以及将第一层合体附接至第二层合体使得第二缓冲层接触第三缓冲层。
技术领域
本申请要求于2018年9月18日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2018-0111490号的优先权和权益,其全部内容通过引用并入本文。
本说明书涉及用于制造器件的方法和由此制造的器件。
背景技术
与相关技术中的无机器件相比,有机电子器件或有机-无机杂化电子器件由于诸如轻质、柔性和低温工艺的特性而作为下一代电子器件引起关注。特别地,由于膜基板可以应用于有机电子器件或有机-无机杂化电子器件,所以可以制造柔性器件,并因此存在可以将能够连续生产的辊对辊(roll-to-roll)工艺应用于器件的优点。
然而,在相关技术中的技术中,即使将辊对辊工艺应用于有机电子器件或有机-无机杂化电子器件,上电极也通过真空沉积法来施加以确保器件的性能,并且在这种情况下,存在这样的问题:由于难以在辊对辊工艺中使用的常压下进行真空沉积法,因此难以实现大规模生产。因此,需要一种用于制造上电极的方法,该方法在使得工艺能够在常压下进行的同时不阻碍器件的性能。
发明内容
技术问题
本说明书提供了用于制造器件的方法和使用其制造的器件。
技术方案
本说明书的一个示例性实施方案提供了用于制造器件的方法,所述方法包括:制备包括第一缓冲层和第二缓冲层的第一层合体;
制备包括设置在碳电极上的第三缓冲层的第二层合体;以及
将第一层合体附接至第二层合体使得第二缓冲层接触第三缓冲层。
本说明书的一个示例性实施方案提供了通过所述制造方法制造的器件。
有益效果
根据本说明书的一个示例性实施方案的制造方法可以通过廉价的涂覆和层合工艺等形成电极,因为该工艺可以在常压下进行。因此,可以减少工艺成本并且确保电极的性能,使得容易应用辊对辊连续工艺。
附图说明
图1是例示根据本说明书的实施方案制造的器件的堆叠结构的图。
图2是示出在本说明书的一个示例性实施方案中制造的器件的截面的SEM测量结果的图。
图3是示出在本说明书的一个示例性实施方案中制造的器件的性能的测量结果的图。
10:第一电极
20:第一缓冲层
30:激子产生层
40:第二缓冲层
50:第三缓冲层
60:第二电极
具体实施方式
在下文中,将详细描述本说明书。
在本说明书中,当一个部件“包括”一个构成要素时,除非另外具体描述,否则这并不意指排除另外的构成要素,而是意指还可以包括另外的构成要素。
在本说明书中,当将一个构件设置在另一个构件“上”时,这不仅包括一个构件与另一个构件接触的情况,而且还包括在该两个构件之间存在又一个构件的情况。
本说明书的一个示例性实施方案提供了用于制造器件的方法,所述方法包括:制备包括第一缓冲层和第二缓冲层的第一层合体;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择