[发明专利]用于更好的设计对准的目标选择改进

权利要求书

1.一种检验方法，其包括：

在处理器处接收利用设计文件来提供的热点位置；

使用所述处理器来偏置裸片的图像帧中的多个块中的一或多者中的图案到设计对准目标，以使得所述图案到设计对准目标中的一者包含所述热点位置，其中所述偏置包括将所述图案到设计对准目标中的至少一者从没有所述热点位置的所述块的一者移动到具有所述热点位置的所述块的一者；

使用所述处理器针对重复图案评估所述图案到设计对准目标；及

基于具有所述热点位置的所述图案到设计对准目标而减少关照区域大小。

2.根据权利要求1所述的检验方法，其中所述块为常规大小。

3.根据权利要求2所述的检验方法，其中将所述图像帧划分为25个所述常规大小的块。

4.根据权利要求1所述的检验方法，其中所述评估包含：

使用所述处理器产生所述图像帧上的X及Y投影；

使用所述处理器对具有X及Y两者上的最高梯度的多个点取样；

使用所述处理器在所述点的横截面处产生目标位置；及

使用所述处理器评估所述点的唯一性。

5.根据权利要求4所述的检验方法，其中所述点并非唯一的，且其中所述方法包括使用所述处理器凭借适应性傅里叶滤波对所述图像帧进行滤波。

6.根据权利要求5所述的检验方法，其包括使用所述处理器选择具有最大强度的所述点作为所述图案到设计对准目标。

7.根据权利要求1所述的检验方法，其中全部所述图案到设计对准目标包含热点。

8.根据权利要求1所述的检验方法，其中所述热点位置在热点关照区域位置文件中。

9.一种非暂时性计算机可读媒体，其存储经配置以命令处理器执行根据权利要求1所述的方法的程序。

10.一种非暂时性计算机可读媒体，其存储经配置以命令处理器执行根据权利要求4所述的方法的程序。

11.一种检验系统，其包括：

载物台，其固持晶片；

电子束源，其将电子束引导到所述晶片处；

检测器，其经配置以接收从所述晶片反射的所述电子束；及

处理器，其与所述检测器电子通信，其中所述处理器经配置以：

接收利用设计文件来提供的热点位置；

偏置所述晶片的裸片的图像帧中的多个块中的一或多者中的图案到设计对准目标，以使得所述图案到设计对准目标中的一者包含所述热点位置，其中所述偏置包括将所述图案到设计对准目标中的至少一者从没有所述热点位置的所述块的一者移动到具有所述热点位置的所述块的一者；

针对重复图案评估所述图案到设计对准目标；及

基于具有所述热点位置的所述图案到设计对准目标而减少关照区域大小。

12.根据权利要求11所述的检验系统，其中所述块为常规大小。

13.根据权利要求12所述的检验系统，其中将所述图像帧划分为25个所述常规大小的块。

14.根据权利要求11所述的检验系统，其中针对所述重复图案评估所述图案到设计对准目标包含：

产生所述图像帧上的X及Y投影；

对具有X及Y两者上的最高梯度的多个点取样；

在所述点的横截面处产生目标位置；及

评估所述点的唯一性。

15.根据权利要求14所述的检验系统，其中所述点并非唯一的，且其中所述处理器经配置以凭借适应性傅里叶滤波对所述图像帧进行滤波。