[发明专利]偏移图案以减少线波动

说明书

本案描述的实施方式提供了一种在数字光刻工艺期间偏移掩模图案数据的方法，以减少曝光图案的线波动。所述方法包括将具有多个曝光多边形的掩模图案数据提供给数字光刻系统的处理单元。处理单元具有多个图像投射系统，其接收掩模图案数据。每个图像投射系统对应于基板的多个部分的一部分，并接收对应于所述部分的曝光多边形。在多个图像投射系统下扫描基板，且在偏移掩模图案数据时将多个发射投射到所述多个部分。多个发射的每个发射在对应于所述部分的曝光多边形内。

技术领域

本揭示案的实施方式大体涉及光刻系统。更特定言之，本揭示案的实施方式涉及偏移(shifting)图案以减少线波动的方法。

背景技术

光刻广泛用于半导体装置的制造(诸如用于半导体器件的后端处理)以及显示装置(诸如液晶显示器(LCD))的制造。例如，大面积基板常用于制造LCD。LCD或平板显示器通常用于有源矩阵显示器，诸如电脑、触控面板装置、个人数字助理(PDA)、移动电话、电视屏幕等。一般来说，平板显示器包括一层液晶材料，其作为每个像素处的相变材料，夹在两个板之间。当来自电源的电力施加在液晶材料上或穿过液晶材料时，在像素位置处控制(亦即，选择性地调制)通过液晶材料的光量，使得能够在显示器上产生图像。

传统的数字光刻系统利用多个图像投射系统。每个图像投射系统被配置为将多个写入光束投射到基板表面上的光刻胶层中。每个图像投射系统将写入光束投射到基板的表面。由投射透镜系统所投射的写入光束将图案(也称为掩模图案)写入基板表面上的光刻胶层中。然而，掩模图案可能具有微动(jogging)效应，也称为线波动。线波动可能导致最终产生较低品质的显示装置。

因此，本领域需要一种偏移图案以减少线波动的方法。

发明内容

在一个实施方式中，提供了一种方法。所述方法包括将具有多个曝光多边形的掩模图案数据提供给数字光刻系统的处理单元。处理单元具有多个图像投射(projection)系统，所述多个图像透射系统接收掩模图案数据。每个图像投射系统对应于基板的多个部分的一部分，并接收对应于所述部分的曝光多边形数据集。在多个图像投射系统下扫描基板，且在偏移掩模图案数据时将多个发射(shot)投射到所述多个部分。多个发射的每个发射在对应于所述部分的曝光多边形内。偏移掩模图案数据包括以一偏移频率将掩模图案数据偏移到最大偏移和最小偏移之间的位置。

在另一个实施方式中，提供了一种方法。所述方法包括将具有多个曝光多边形的掩模图案数据提供给数字光刻系统的处理单元。处理单元具有多个图像投射系统，所述多个图像投射系统接收掩模图案数据。每个图像投射系统对应于基板的多个部分中的一部分，并接收对应于所述部分的曝光多边形。每个图像投射系统的空间光调制器的多个空间光调制器像素以聚合的发射图案排列，其中每个空间光调制器像素对应于所述聚合的发射图案的潜在发射(potential shot)。在多个图像投射系统下扫描基板，且在偏移掩模图案数据时将多个发射投射到所述多个部分。多个发射的每个发射在对应于所述部分的曝光多边形内。偏移掩模图案数据包括以一偏移频率将掩模图案数据偏移到最大偏移和最小偏移之间的由随机数发生器选择的位置。最大偏移和最小偏移是聚合的发射图案的相邻潜在发射之间的距离的百分比。

在又另一个实施方式中，提供了一种方法。所述方法包括将具有多个曝光多边形的掩模图案数据提供给数字光刻系统的处理单元。处理单元具有多个图像投射系统，所述多个图像投射系统接收掩模图案数据。每个图像投射系统对应于基板的多个部分中的一部分，并接收对应于所述部分的曝光多边形。每个图像投射系统的空间光调制器的多个空间光调制器像素以聚合的发射图案排列，其中每个空间光调制器像素对应于所述聚合的发射图案的潜在发射。在多个图像投射系统下扫描基板，且在偏移掩模图案数据时将多个发射投射到所述多个部分。多个发射的每个发射在对应于所述部分的曝光多边形内。偏移掩模图案数据包括以一偏移频率将掩模图案数据偏移到最大偏移和最小偏移之间的由随机数发生器选择的位置。最大偏移和最小偏移是聚合的发射图案的相邻潜在发射之间的距离的百分比。

附图说明