[发明专利]静电卡盘用供电装置及基板管理方法在审
申请号: | 201980043302.8 | 申请日: | 2019-05-08 |
公开(公告)号: | CN112335031A | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
发明(设计)人: | 藤井克德;伊藤真规;岩田康 | 申请(专利权)人: | 日本爱发科泰克能株式会社 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H02N13/00 |
代理公司: | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人: | 齐永红;秦岩 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 静电 卡盘 供电 装置 管理 方法 | ||
1.一种静电卡盘用供电装置,给在真空室内吸附保持被处理基板的静电卡盘供电,所述静电卡盘用供电装置的特征在于,具备:
直流电源部,其向静电卡盘上设置的电极施加直流电压;以及
交流电源部,其流通经过静电卡盘的静电电容的交流电流;
所述静电卡盘用供电装置还具有切换装置,所述切换装置以为了将被处理基板吸附保持在静电卡盘上而从直流电源部向电极施加卡盘电压的电路作为第一电路,以对被处理基板进行除电用的电路作为第二电路,所述切换装置切换第一电路和第二电路;
在第二电路上设置有交流电源部和测量交流电流或交流电压的测量器。
2.根据权利要求1所述的静电卡盘用供电装置,其特征在于:
所述电极由一对电极构成;
所述直流电源部的正负输出经所述切换装置分别与各电极连接,两个所述交流电源部串联设置在所述第二电路上,电阻串联设置在两个交流电源部之间且作为所述测量器的电压计与电阻并联连接。
3.一种基板管理方法,使用权利要求1或2记载的静电卡盘用供电装置,管理被处理基板相对于静电卡盘的吸附、释放,所述基板管理方法的特征在于,包括:
在通过切换装置切换到第二电路的状态下在静电卡盘表面上设置被处理基板,通过交流电源部流通经过静电卡盘的静电电容的交流电流,以测量器测量此时的交流电流或交流电压,当该测量值在规定范围内时,允许对电极施加直流电压的工序;
通过切换装置切换到第一电路,从直流电源部向电极施加卡盘电压,对设置在静电卡盘表面的被处理基板进行吸附保持,在吸附后,通过交流电源部流通经过静电卡盘的静电电容的交流电流,用测量器来测量此时的交流电流或交流电压,判断该测量值是否在规定范围内的工序;以及
通过切换装置切换到第二电路,对被处理基板进行除电,并且通过交流电源部流通经过静电卡盘的静电电容的交流电流,用测量器来测量此时的交流电流或交流电压,该测量值在规定范围内时允许被处理基板从静电卡盘脱离的工序。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造