[发明专利]发光分析装置及其维护方法

说明书

检测强度获取部(52)在进行发光分析装置的校准的定时获取检测器(43)的检测强度。维护与否判定部(53)通过将由检测强度获取部(52)获取到的检测强度与基准强度进行比较，来判定是否需要进行聚光透镜的维护。在定期地进行的发光分析装置的校准的定时获取检测器(43)的检测强度，通过将该检测强度与基准强度进行比较，来判定是否需要进行聚光透镜的维护。因而，能够定期地确认是否需要进行聚光透镜的维护，并基于检测强度与基准强度的比较结果而在适当的定时进行维护。

技术领域

本发明涉及一种发光分析装置及其维护方法，该发光分析装置通过放电使试样发光，利用聚光透镜使该光聚光并利用检测器进行检测，由此基于将检测强度与化学值的关系建立对应所得到的校准曲线来测定试样的化学值。

背景技术

在发光分析装置中例如设置有电极，以与该电极相向的方式配置试样。在进行试样的分析时，在试样与电极之间进行放电，由检测器接收通过放电而产生的光。然后，基于由检测器接收到的光的强度，来分析试样中含有的元素的含有率等化学值(例如，参照下述专利文献1)。

通过放电而从试样产生的光被聚光透镜聚光，并被检测器接收。聚光透镜由于例如在发光分析装置中使用的真空泵的油、紫外线等的影响而在其表面附着污垢或发生劣化，因此需要定期地进行维护。例如能够基于放电次数、装置的使用天数等判断聚光透镜的维护时期，但以往委托各用户进行该判断。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：实用新型登记第3187346号公报

发明内容

发明要解决的问题

在进行了聚光透镜的维护的情况下，在之后不久的期间，聚光透镜的透过率降低，由检测器检测到的光的强度的基线发生漂移。因此，如果聚光透镜的维护频度高，则在发生了漂移的状态下进行分析的期间变长，在无法充分地发挥装置的性能的状态下进行分析的机会变多。

另一方面，如果聚光透镜的维护频度低，则在聚光透镜被污染的状态或发生劣化的状态下进行分析的期间变长，S/N比变差。因此，存在以下问题：分析结果易于产生偏差，无法高精度地进行分析。

本发明是鉴于上述实际情况而完成的，其目的在于提供一种能够定期地确认是否需要进行聚光透镜的维护并在适当的定时进行维护的发光分析装置及其维护方法。

用于解决问题的方案

(1)本发明所涉及的发光分析装置通过放电使试样发光，利用聚光透镜使该光聚光并利用检测器进行检测，由此基于将检测强度与化学值的关系建立对应所得到的校准曲线来分析试样的化学值，所述发光分析装置具备检测强度获取部和维护与否判定部。所述检测强度获取部在进行所述发光分析装置的校准的定时获取所述检测器的检测强度。所述维护与否判定部通过将由所述检测强度获取部获取到的检测强度与基准强度进行比较，来判定是否需要进行所述聚光透镜的维护。

根据这样的结构，在定期地进行的发光分析装置的校准的定时获取检测器的检测强度，通过将该检测强度与基准强度进行比较，来判定是否需要进行聚光透镜的维护。因而，能够定期地确认是否需要进行聚光透镜的维护，并基于检测强度与基准强度的比较结果而在适当的定时进行维护。

(2)也可以基于制作出所述校准曲线时的所述检测器的检测强度来设定所述基准强度。

根据这样的结构，能够使用基于制作出校准曲线时的检测器的检测强度而设定的基准强度，来适当地判定是否需要进行聚光透镜的维护。

(3)也可以基于变更了在所述发光分析装置的校准中使用的校准用试样时的所述检测器的检测强度来设定所述基准强度。