[发明专利]使用可流动CVD对用于光学部件的微米/纳米结构所进行的间隙填充

权利要求书

1.一种用于形成扩增实境或虚拟现实显示设备的光学部件的方法，包括：

形成所述扩增实境或虚拟现实显示设备的所述光学部件的波导或平坦透镜，所述波导或所述平坦透镜具有设置在处理区域中的基板上的图案，所述波导或所述平坦透镜具有第一折射率并包括氧化钛、氧化钽、氧化锆、氧化铪、或氧化铌；及

在小于100℃的温度和介于0.1托至10托之间的压力下通过可流动化学气相沉积工艺直接在所述波导或所述平坦透镜上形成层，所述层具有小于所述第一折射率的第二折射率，其中所述可流动化学气相沉积工艺包括：

生成原子氧前驱物；及

将所述原子氧前驱物引入所述处理区域，其中硅前驱物设置在所述处理区域中，使得在将所述原子氧前驱物引入所述处理区域之前所述原子氧前驱物和所述硅前驱物不混合。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述第一折射率的范围是从1.7至2.4。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述层包括多孔二氧化硅。

4.如权利要求1所述的方法，其中所述层包括石英。

5.如权利要求1所述的方法，其中所述第二折射率的范围是从1.1至1.5。

6.一种用于形成扩增实境或虚拟现实显示设备的光学部件的方法，包括：

形成所述扩增实境或虚拟现实显示设备的所述光学部件的波导或平坦透镜，所述波导或所述平坦透镜具有设置在处理区域中的基板上的图案，所述波导或所述平坦透镜具有第一折射率并包括氧化钛、氧化钽、氧化锆、氧化铪、或氧化铌；及

在小于100℃的温度和介于0.1托至10托之间的压力下通过可流动化学气相沉积工艺直接在所述波导或所述平坦透镜上形成层，所述层具有范围从1.1至1.5的第二折射率，其中所述可流动化学气相沉积工艺包括：

生成原子氧前驱物；及

将所述原子氧前驱物引入所述处理区域，其中硅前驱物设置在所述处理区域中，使得在将所述原子氧前驱物引入所述处理区域之前所述原子氧前驱物和所述硅前驱物不混合。

7.如权利要求6所述的方法，进一步包括：退火所述层。

8.如权利要求7所述的方法，其中退火所述层的步骤包括：将所述层加热至300℃至1000℃。

9.如权利要求6所述的方法，其中所述层包括多孔二氧化硅。

10.如权利要求6所述的方法，其中所述层包括石英。

11.一种用于形成扩增实境或虚拟现实显示设备的光学部件的方法，包括：

形成所述扩增实境或虚拟现实显示设备的所述光学部件的波导或平坦透镜，所述波导或所述平坦透镜具有设置在处理区域中的基板的第一表面上的图案，所述波导或所述平坦透镜具有第一折射率且包括氧化钛、氧化钽、氧化锆、氧化铪、或氧化铌；及

在小于100℃的温度和介于0.1托至10托之间的压力下通过可流动化学气相沉积工艺在直接所述波导或所述平坦透镜上形成层，所述层具有范围从1.1至1.5的第二折射率，其中所述可流动化学气相沉积工艺包括：

生成原子氧前驱物；及

将所述原子氧前驱物引入所述处理区域，其中硅前驱物设置在所述处理区域中，使得在将所述原子氧前驱物引入所述处理区域之前所述原子氧前驱物和所述硅前驱物不混合。

12.如权利要求11所述的方法，其中所述波导或平坦透镜是通过电子束光刻或纳米压印光刻术形成于所述基板的所述第一表面上。

13.如权利要求11所述的方法，进一步包括：在所述基板的第二表面上形成具有第三折射率的第二层，所述第二层具有第二图案。