[发明专利]含高度支化聚合物的制剂、高度支化聚合物和含此高度支化聚合物的电光器件在审

专利信息
申请号: 201980044174.9 申请日: 2019-07-08
公开(公告)号: CN112352331A 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 比特·布克哈特;米丽娅姆·恩盖尔;马蒂亚斯·亨斯特;霍尔格·海尔;曼纽尔·汉布格尔;克里斯托夫·莱昂哈德;格雷·比雷 申请(专利权)人: 默克专利有限公司
主分类号: H01L51/54 分类号: H01L51/54;C08G61/00;C08G73/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王潜;郭国清
地址: 德国达*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高度 聚合物 制剂 电光 器件
【说明书】:

发明涉及包含至少一种超支化聚合物和至少一种有机溶剂的制剂,所述超支化聚合物含有30至70mol%的至少一种空穴传输重复单元A、5至30mol%的至少一种支化重复单元B、5至30mol%的至少一种其它重复单元C和5至40mol%的至少一种端基E,其中所述重复单元A、B和C彼此不同,其特征在于所述制剂具有≤25mPas的粘度。此外,本发明涉及相应的超支化聚合物及其制备方法。另外,本发明还涉及根据本发明的超支化聚合物在电子器件或光电器件中的用途,以及涉及含有这些聚合物的电子器件或光电器件。

本发明涉及包含至少一种高度支化聚合物和至少一种有机溶剂的制剂,所述至少一种高度支化聚合物含有30至70mol%的至少一种空穴传输重复单元A、5至30mol%的至少一种支化重复单元B、5至30mol%的至少一种其它重复单元C和5至40mol%的至少一种端基E,其中所述重复单元A、B和C彼此不同,其特征在于所述制剂具有≤25mPas的粘度。

此外,本发明涉及高度支化聚合物,所述高度支化聚合物含有30至70mol%的至少一种空穴传输重复单元A、5至30mol%的至少一种支化重复单元B、5至30mol%的至少一种其它重复单元C和5至40mol%的至少一种端基E,其中所述重复单元A、B和C彼此不同,并且涉及用于制备所述高度支化聚合物的方法。

另外,本发明还涉及根据本发明的高度支化聚合物在电子器件或光电器件中、特别是在有机电致发光器件(所谓的OLED(OLED=有机发光二极管))中的用途,并且涉及含有这些聚合物的有机电致发光器件。

JP 2008/280506 A公开了可交联的发光聚合物,其在主链中含有发光铱络合物。所公开的聚合物仅含有交联剂基团作为端基。没有公开含有分支单元的聚合物。

EP 2 439 804 A1公开了可交联的空穴传输聚合物,其在主链中含有苯基基团作为分支单元。所公开的聚合物仅含有交联剂基团作为端基。

Paul等人在Macromolecules 2006,39,7789-7792中描述了可交联的高度支化三芳基聚合物作为空穴传输材料。所公开的聚合物是包含三芳基胺单元的均聚物,其中每个重复单元是交联的和/或支化的。

US 2016/0329497 A1公开了支化的空穴传输聚合物,其另外在主链中可含有分支单元。这些聚合物是通过旋涂从溶液中加工的。

从已知的现有技术开始,可以认为本发明的一个目的是提供包含聚合物的制剂。这里的聚合物必须具有所需的电光特性,并且在所使用的溶剂或溶剂混合物中具有足够的溶解度。必须根据其特性来选择溶剂,使得它们溶解足够量的聚合物,并且它们具有相应的物理特性(例如粘度和沸点),使得所获得的制剂可以通过印刷和涂层技术(例如喷墨印刷)来加工。

根据本发明,通过提供包含高度支化聚合物和至少一种有机溶剂的制剂来实现此目的,其特征在于所述制剂具有≤25mPas的粘度。

这里的高度支化聚合物含有:

30至70mol%的至少一种空穴传输重复单元A、

5至30mol%的至少一种支化重复单元B、

5至30mol%的至少一种其它重复单元C、和

5至40mol%的至少一种端基E,

其中所述重复单元A、B和C彼此不同。

本发明涉及包含高度支化聚合物和至少一种有机溶剂的制剂,所述至少一种高度支化聚合物含有30至70mol%的至少一种空穴传输重复单元A、5至30mol%的至少一种支化重复单元B、5至30mol%的至少一种另外的重复单元C和5至40mol%的至少一种端基E,其中所述重复单元A、B和C彼此不同,其特征在于所述制剂具有≤25mPas的粘度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于默克专利有限公司,未经默克专利有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980044174.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top