[发明专利]微发光二极管阵列平版印刷术

说明书

描述一种平版印刷术设备，具有：基板扫描系统，经配置以扫描基板；图案发生器，经配置以接收输入信号和产生输出信号，所述输出信号与图案相关；和光源，所述光源连接到所述图案发生器，其中所述光源是至少一个微发光二极管阵列，其中所述阵列经配置以接收来自所述图案发生器的所述信号并重复由所述图案发生器产生的所述图案。

背景

领域

本公开内容的方面涉及无掩模平版印刷术系统(maskless lithographysystem)。更特别地，本公开内容的方面涉及用于微发光二极管阵列平版印刷术的系统和方法。

相关技术描述

发光二极管技术中的进步在若干工业中持续快速发展。作为示例，目前在单个基板上制造发光二极管(light emitting diode，LED)的大阵列连同逻辑电路(logic)与驱动器是可行的。目前用于无掩模平版印刷术的常规技术使用激光照射、微镜阵列(micro-mirror array)，例如是可从德州仪器(Texas Instruments)获得的那些设备。使用此装置结合平版印刷术具有两个固有的缺点。第一个缺点是最大帧率是20kHz。第二个缺点是与镜阵列的光栅特性结合的照射光束的相干性(coherence)与投射透镜的远心要求冲突。受限的帧率产生非常慢的扫描速率和/或低的整体产量。受限的帧率还可产生对于基板上的每一点计算五十(50)或更多个不同的图案的非常复杂的软件。此外，缺乏远心不只牺牲景深性能，而且还牺牲覆盖(overlay)性能。

需要提供不与远心要求冲突的用于平版印刷术系统的照射系统和方法。

还需要提供供给所涉及的系统的改善的扫描速率和较大的整体产量的用于平版印刷术系统的照射系统和方法。

还需要提供相较于常规系统供给增加的景深性能的平版印刷术系统。

还需要提供相较于常规系统供给更好的覆盖性能的平版印刷术系统。

概述

以下概述不应视为限制本公开内容的方面。

在一个非限制性实施方式中，一种平版印刷术设备被公开而包括基板扫描系统，经配置以扫描基板；一个或多个微发光二极管阵列，由成像系统成像至基板上，其中硬连线(hard-wired)逻辑电路结合到该一个或多个微发光二极管阵列中，并且经配置以在一个扫描方向中使逻辑信号移位并且经配置以使用逻辑信号来将单独的微LED完全地接通或完全地关断。

在另一非限制性实施方式中，一种执行微发光二极管平版印刷术的方法被公开而包括：将基板放置于平台上，平台经配置以保持基板；将平台上的基板与标记(reference)对准；利用微发光二极管的至少一个阵列照射平台上的基板；和从平台移除基板。

其他方面和优点将通过下方的说明和所附的权利要求书而变得清楚。

附图简要说明

为了可详细地理解本公开内容的上述特征，可通过参考实施方式获得上文简要概述的本公开内容的更具体说明，在附图中图示实施方式中的一些。然而，值得注意的是，附图仅图示本公开内容的典型实施方式并且因而不视为本公开内容的范围的限制，因为本公开内容可允许其他同等有效的实施方式。

图1是示出线边缘的位置如何可通过改变相对曝光剂量来移动的图表，相对曝光剂量由在线边缘处的像素产生。

图2是示出相对曝光剂量与线边缘位置之间的关系曲线的近似线性关系的图表，相对曝光剂量由限定边缘的二极管的行产生。

图3是浸没透镜覆盖的LED阵列的平面横截面图。

图4是图示触发器逻辑状态如何进展通过5个时钟周期的示意图。

图5是图示同步于基板的运动，包含于LED列中的内部和外部逻辑电路可如何布置来从LED阵列的一端传送曝光图案至另一端的示意性示例。