[发明专利]用于均匀流量分布和有效净化的气流引导件设计有效
申请号: | 201980044401.8 | 申请日: | 2019-06-20 |
公开(公告)号: | CN112384642B | 公开(公告)日: | 2023-02-17 |
发明(设计)人: | 高建德;杰弗里·A·霍;芮祥新;周建华;栗田真一;邵寿潜;孙光伟 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 均匀 流量 分布 有效 净化 气流 引导 设计 | ||
1.一种气流入口引导件,包括:
流引导件主体,所述流引导件主体具有顶部、底部、主体侧壁、流引导件入口和流引导件出口;和
流调节器,所述流调节器设置在所述流引导件主体内,包括具有一直径的至少一个开口和至少一个第一通道,所述至少一个第一通道包括:
第一侧壁和第二侧壁,所述第一侧壁和所述第二侧壁沿着以所述流调节器为中心的半径延伸,所述第一侧壁和所述第二侧壁从所述流调节器到设置在所述流引导件出口中的第一通道出口具有不同长度,所述第一侧壁和所述第二侧壁具有侧壁宽度和侧壁高度;
第一通道面积,所述第一通道面积由所述流调节器、所述第一侧壁、所述第二侧壁和所述第一通道出口界定;
第一通道体积,所述第一通道体积由所述流调节器、所述第一侧壁、所述第二侧壁、所述第一通道出口、所述流引导件主体的所述底部和所述流引导件主体的所述顶部界定;
第一入口宽度,所述第一入口宽度在所述流调节器处从所述第一侧壁到所述第二侧壁;
第一出口宽度,所述第一出口宽度在所述第一通道出口处从所述第一侧壁到所述第二侧壁;和
第一截面面积,所述第一截面面积由所述第一出口宽度和所述侧壁高度界定,其中气室存在于所述流调节器与所述流引导件入口之间。
2.如权利要求1所述的气流入口引导件,其中所述气流入口引导件被配置为设置在原子层沉积(ALD)腔室内的处理气体入口中。
3.如权利要求1所述的气流入口引导件,其中每个第一入口宽度实质上相同。
4.如权利要求1所述的气流入口引导件,其中至少两个第一通道的所述第一截面面积实质上相同。
5.如权利要求1所述的气流入口引导件,其中每个开口的所述直径被选择为考虑到至少两个第一通道的所述第一通道体积和所述第一通道面积的差异。
6.一种气流出口引导件,包括:
流引导件主体,所述流引导件主体具有顶部、底部、主体侧壁、流引导件入口和被配置为耦接至泵的流引导件出口,其中所述流引导件主体中形成有至少一个第一通道,其中所述至少一个第一通道包括:
第一侧壁和第二侧壁,所述第一侧壁和所述第二侧壁沿着以所述流引导件主体为中心的半径延伸,所述第一侧壁和所述第二侧壁从第一通道出口到第一通道入口具有不同长度,所述第一侧壁和所述第二侧壁具有侧壁宽度和侧壁高度;
第一通道面积,所述第一通道面积由所述第一通道入口、所述第一侧壁、所述第二侧壁和所述第一通道出口界定;
第一通道体积,所述第一通道体积由所述第一通道入口、所述第一侧壁、所述第二侧壁、所述第一通道出口、所述流引导件主体的所述底部和所述流引导件主体的所述顶部界定;
第一入口宽度,所述第一入口宽度在所述第一通道入口处从所述第一侧壁到所述第二侧壁;
第一出口宽度,所述第一出口宽度在所述第一通道出口处从所述第一侧壁到所述第二侧壁;和
第一截面面积,所述第一截面面积由所述第一入口宽度和所述侧壁高度界定。
7.如权利要求6所述的气流出口引导件,其中所述气流出口引导件被配置为设置在原子层沉积(ALD)腔室内的处理气体出口中。
8.如权利要求6所述的气流出口引导件,其中每个第一出口宽度实质上相同。
9.如权利要求6所述的气流出口引导件,其中至少两个第一通道的所述第一截面面积实质上相同。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的