[发明专利]用于均匀流量分布和有效净化的气流引导件设计

说明书

本文描述的实施方式提供了一种具有用于均匀地输送处理气体的气流入口引导件和用于有效地净化处理气体并减少净化时间的气流出口引导件的腔室。所述腔室包括：腔室主体，所述腔室主体具有处理气体入口和处理气体出口；盖组件；处理气体入口和处理气体出口，所述处理气体入口和处理气体出口被配置为与所述腔室中的处理区域流体连通；气流入口引导件，所述气流入口引导件设置在所述处理气体入口中；和气流出口引导件，所述气流出口引导件设置在所述处理气体出口中。所述气流入口引导件包括流调节器和至少两个第一入口引导通道，所第一入口引导通道具有不同的第一入口引导通道面积。所述气流出口引导件包括至少两个第一出口引导通道，所述第一出口引导通道具有不同的第一出口引导通道面积。

技术领域

本公开内容的实施方式总体涉及原子层沉积(ALD)腔室。更具体地，本公开内容的实施方式涉及用于均匀地输送处理气体和有效地净化处理气体的ALD腔室。

背景技术

ALD基于原子层外延(ALE)并且采用化学吸附技术以连续循环在表面上输送前驱物分子。基板设置在ALD腔室的处理区域中。第一前驱物跨越基板流入处理区域中并且从处理区域排放。随后，第二前驱物跨越基板流入处理区域中，并且从处理区域排放。视情况，净化气体可以在前驱物的引入操作之间引入。第一前驱物和第二前驱物反应以形成产物化合物作为基板表面上的膜。重复循环来将层形成到期望厚度。

然而，前驱物和净化气体(也称为处理气体)可能在整个处理区域上不均匀地分布，并且因此可能在整个基板上不均匀地分布。由此，基板的膜厚度分布可能是不均匀的。此外，处理区域中的处理气体可能未有效地从处理区域排放，使得残留气体余留在处理区域中。余留在腔室中的残留处理气体影响膜的品质。此外，净化处理气体以确保残留处理气体不余留在处理区域中所需的时间降低产量。

由此，在本领域中需要具有用于均匀地输送处理气体的气流入口引导件和用于有效地净化处理气体并减少净化时间的气流出口引导件的腔室。

发明内容

在一个实施方式中，提供了一种气流入口引导件。气流入口引导件包括：流引导件主体，所述流引导件主体具有顶部、底部、主体侧壁、流引导件入口、和流引导件出口；和流调节器，所述流调节器设置在流引导件主体内，包括具有一直径的至少一个开口和至少一个第一通道。至少一个第一通道包括第一侧壁和第二侧壁、第一通道面积、第一通道体积、在流调节器处从第一侧壁到第二侧壁的第一入口宽度、在第一通道出口处从第一侧壁到第二侧壁的第一出口宽度、以及由第一出口宽度和侧壁高度界定的第一截面面积。气室存在于流调节器与流引导件入口之间。第一侧壁和第二侧壁从流调节器到设置在流引导件出口中的第一通道出口具有不同长度。第一侧壁和第二侧壁具有侧壁宽度和侧壁高度。第一通道面积由流调节器、第一侧壁、第二侧壁和第一通道出口界定。第一通道体积由流调节器、第一侧壁、第二侧壁、第一通道出口、流引导件主体的底部和流引导件主体的顶部界定。第一截面面积由第一出口宽度和侧壁高度界定，其中气室存在于流调节器与流引导件入口之间。

在另一实施方式中，提供了一种气流出口引导件。气流出口引导件包括：流引导件主体，所述流引导件主体具有顶部、底部、主体侧壁、流引导件入口和被配置为耦接至泵的流引导件出口。至少一个第一通道包括第一侧壁和第二侧壁、第一通道面积、第一通道体积、在第一通道入口处从第一侧壁到第二侧壁的第一入口宽度、在第一通道出口处从第一侧壁到第二侧壁的第一出口宽度、以及由第一出口宽度和侧壁高度界定的第一截面面积。第一侧壁和第二侧壁从第一通道出口到第一通道入口具有不同长度。第一侧壁和第二侧壁具有侧壁宽度和侧壁高度。第一通道面积由第一通道入口、第一侧壁、第二侧壁、和第一通道出口界定。第一通道体积由第一通道入口、第一侧壁、第二侧壁、第一通道出口、流引导件主体的底部和流引导件主体的顶部界定。第一截面面积由第一入口宽度和侧壁高度界定。