[发明专利]光学构件有效

专利信息
申请号: 201980047241.2 申请日: 2019-07-16
公开(公告)号: CN112424654B 公开(公告)日: 2023-09-19
发明(设计)人: 山本宏行;真下尚洋;尾山卓司;田原慎哉;长岛达雄 申请(专利权)人: AGC株式会社
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;B60J1/00;C03B27/04;C03C3/083;C03C3/087;C03C3/089;C03C17/34;C03C21/00;C03C27/12;G02B5/22;G02B5/26
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 杨青;安翔
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 构件
【权利要求书】:

1.一种光学构件,其具有:

透明基板,所述透明基板含有选自玻璃、玻璃陶瓷、硅和蓝宝石中的至少一种物质,并且具有700nm以上且1800nm以下的波长范围中的光的透射率为78%以上的红外线高透射区域;和

光干涉膜,所述光干涉膜配置在与所述红外线高透射区域对应的所述透明基板的主面上,其中,

在与所述透明基板的所述红外线高透射区域对应的所述光学构件的区域中,在1025nm以上且1800nm以下的波长范围中的至少一个波长λs的光的透射率在入射角为0度以上且60度以下的范围内具有86.5%以上的最小值、并且具有9%以下的最小值与最大值之差,

所述透明基板包含含铁玻璃,并且相对于基本玻璃,所述含铁玻璃含有以三氧化二铁(Fe2O3)换算为1质量ppm~500质量ppm的铁(Fe)。

2.如权利要求1所述的光学构件,其中,该透明基板包含非晶材料。

3.如权利要求1或2所述的光学构件,其中,在与所述透明基板的所述区域对应的所述光学构件的区域中,以5度的入射角照射的所述波长λs的光的光损失为3%以下。

4.如权利要求1或2所述的光学构件,其中,在将所述光学构件在温度60℃、相对湿度80%的环境中暴露48小时前后,在与所述透明基板的所述区域对应的所述光学构件的区域中,所述波长λs的光的入射角为0度时的透射率的变化为1%以下。

5.如权利要求1或2所述的光学构件,其中,在所述光学构件的所述光干涉膜的表面处测定的压入深度50nm下的马氏硬度大于对所述透明基板的表面处测定的压入深度50nm下的马氏硬度。

6.如权利要求1或2所述的光学构件,其中,所述光干涉膜包含含有低折射率层和高折射率层的两层以上。

7.如权利要求6所述的光学构件,其中,所述低折射率层与所述高折射率层彼此邻接,并且邻接的所述低折射率层与所述高折射率层的折射率差为0.1以上。

8.如权利要求6所述的光学构件,其中,所述低折射率层以选自氧化硅和氟化镁中的至少一种物质作为主要成分。

9.如权利要求6所述的光学构件,其中,所述高折射率层以选自氮化硅、氮氧化硅、氮化铝、氮氧化铝、氧化锆、氧化锡、氧化铈、硅和氧化铜中的至少一种物质作为主要成分。

10.如权利要求6所述的光学构件,其中,所述光干涉膜具有彼此邻接的所述低折射率层和所述高折射率层,还具有中间折射率层。

11.如权利要求10所述的光学构件,其中,所述中间折射率层以选自氧化铝、氮氧化硅、氮氧化铝、氧化硅与氧化锆的混合物、以及氧化硅与氮化铝的混合物中的至少一种物质作为主要成分。

12.如权利要求6所述的光学构件,其中,构成所述光干涉膜的层中的至少一层的几何学厚度为50nm以上。

13.如权利要求1或2所述的光学构件,其中,所述光干涉膜的几何学总膜厚为300nm以上。

14.如权利要求1或2所述的光学构件,其中,所述含铁玻璃相对于所述基本玻璃还含有0.0001质量%~2.5质量%的选自由铬(Cr)氧化物、钴(Co)氧化物、锰(Mn)氧化物、铈(Ce)氧化物、铜(Cu)氧化物和硒(Se)氧化物构成的组中的至少一种物质。

15.如权利要求1或2所述的光学构件,其中,所述基本玻璃含有合计为0.1质量%~30质量%的氧化铝(Al2O3)、氧化镁(MgO)和氧化钙(CaO)。

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