[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物

权利要求书

1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含附加了下式(1)所示的基团的聚合物，

在式(1)中，

R_x、S_y和S_z各自独立地为氢原子或一价有机基，

R_y和R_z各自独立地为单键或二价有机基，

环Ar_y和环Ar_z各自独立地为碳原子数4～20的环状烷基或碳原子数6～30的芳基，并且，可以彼此结合而在环Ar_y和环Ar_z之间形成新的环，

n_y为0以上并且为能够在环Ar_y上取代的最大数以下的整数，

n_z为0以上并且为能够在环Ar_z上取代的最大数以下的整数，

※为与聚合物的结合位置。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述环Ar_y和所述环Ar_z中的至少一者包含碳原子数6～30的芳基。

3.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述式(1)所示的基团为选自下式(1-1)～下式(1-15)中的至少一个，

在式(1-1)～式(1-15)中，※为与聚合物的结合位置。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述聚合物包含下式(1a)所示的单元、和下式(1b)所示的单元中的至少一个，

在式(1a)和式(1b)中，

AU各自独立地为式(1)所示的基团，

R₁各自独立地为卤基、硝基、氨基、羟基、缩水甘油基醚基、芳香族烃基、碳原子数1～10的烷基或碳原子数2～10的烯基，并且，可以包含醚、酮和酯中的至少一个，

R₂各自独立地为氢原子、芳香族烃基或杂环基，

R₃各自独立地为氢原子、芳香族烃基、杂环基、碳原子数1～10的烷基或碳原子数2～10的烯基，

R₂和R₃的芳香族烃基和杂环基各自独立地可以包含卤基、硝基、氨基、甲酰基、羧基、羧酸烷基酯基、羟基、碳原子数1～10的烷基、碳原子数1～10的烷氧基和碳原子数6～40的芳基中的至少一个取代基，

R₂和R₃可以彼此结合而形成环，

环Ar₁各自独立地为苯环、萘环或蒽环，

环Ar₂为杂环，

n各自独立地为1以上的整数，

n₁各自独立地为0以上的整数，

n+n₁各自独立地为能够在环Ar₁上取代的最大数以下的整数。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述聚合物为酚醛清漆树脂。