[发明专利]角度滤光器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201980048208.1 申请日: 2019-07-18
公开(公告)号: CN112437892B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 阿加特·普什卡;威尔弗里德·施瓦兹;廷达拉·韦尔杜奇;本杰明·布蒂农 申请(专利权)人: 爱色乐居
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00;G02B5/20;G06V10/14;G06V10/147;H01L27/146
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 谭营营;胡彬
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 角度 滤光 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种制造光学系统(20)的方法,所述光学系统包括角度滤光器(22),所述角度滤光器包括第一和第二初级角度滤光器(F1、F2)的堆叠,所述方法包括穿过所述第一初级角度滤光器(F1)暴露正性抗蚀剂的层(40),以及去除所述层的暴露部分(46)以形成穿过所述层的孔(42),被所述孔穿过的所述层形成所述第二初级角度滤光器(F2),其中所述光学系统(20)包括旨在接收第一辐射(6)的表面(26),所述层(40)对所述第一辐射(6)不透明,所述角度滤光器(22)被配置为阻挡相对于与所述表面正交的方向的入射大于阈值的所述第一辐射的光线,以及允许相对于与所述表面正交的方向的入射小于所述阈值的所述第一辐射的光线通过;其中所述光学系统(20)还包括插在所述第一初级角度滤光器(F1)与所述第二初级角度滤光器(F2)之间的对所述第一辐射(6)至少部分地透明的附加层(35);其中对于每个孔(42),垂直于所述表面(26)测量的所述第一初级角度滤光器(F1)、所述附加层(35)和所述第二初级角度滤光器(F2)的厚度之和与平行于所述表面测量的所述孔的宽度(w)之比在1至10之间变化。

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述暴露步骤包括穿过所述第一初级角度滤光器(F1)使所述层(40)暴露于第二辐射(44),所述正性抗蚀剂对所述第二辐射光敏感。

3.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一辐射(6)在可见光范围内和/或在红外光范围内。

4.根据权利要求1所述的方法,其中每个第一和第二初级角度滤光器(F1、F2)包括被孔(32、42)穿过的层(30、40)。

5.一种光学系统(20),包括角度滤光器(22),所述角度滤光器(22)包括第一和第二初级角度滤光器(F1、F2)的堆叠,所述第二初级角度滤光器(F2)包括正性抗蚀剂的层(40)和穿过所述层的孔(42);所述光学系统(20)还包括旨在接收第一辐射(6)的表面(26),所述层(40)对所述第一辐射(6)不透明,所述角度滤光器(22)被配置为阻挡相对于与所述表面正交的方向的入射大于阈值的所述第一辐射的光线,以及允许相对于与所述表面正交的方向的入射小于所述阈值的所述第一辐射的光线通过;所述光学系统(20)还包括插在所述第一初级角度滤光器(F1)与所述第二初级角度滤光器(F2)之间的对所述第一辐射(6)至少部分地透明的附加层(35);其中对于每个孔(42),垂直于所述表面(26)测量的所述第一初级角度滤光器(F1)、所述附加层(35)和所述第二初级角度滤光器(F2)的厚度之和与平行于所述表面测量的所述孔的宽度(w)之比在1至10之间变化。

6.根据权利要求5所述的系统,其中所述正性抗蚀剂对第二辐射(44)光敏感。

7.根据权利要求5所述的系统,其中所述孔(42)以行和列布置,同一行或同一列的相邻孔之间的间距(p)在1μm至100μm之间变化。

8.根据权利要求5所述的系统,其中沿着与所述表面(26)正交的方向测量的每个孔(42)的高度(h1)在1μm至50μm之间变化。

9.根据权利要求5所述的系统,其中平行于所述表面(26)测量的每个孔(42)的宽度(w)在1μm至100μm之间变化。

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