[发明专利]用于修改支撑表面的工具

说明书

一种用于修改衬底保持器(20)的衬底支撑元件(21)的工具(1)，所述衬底支撑元件具有用于支撑衬底的支撑表面(22)，所述工具包括具有主体表面(3)的主体(2)，其中所述工具包括自所述主体表面的多个突起部(4)，所述多个突起部具有被配置成接触所述支撑表面并且修改所述衬底支撑元件的远端(5)。此外，公开了一种光刻设备和包括这种工具的方法。

技术领域

本申请要求欧洲申请18185938.0的优先权，该案在2018年7月27日提交且其整体内容通过引用并入本文。

技术领域

本发明涉及用于修改保持器的工具、用于使用该工具修改保持器的方法以及包括该工具的光刻设备。

背景技术

光刻设备是将期望的图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。例如，光刻设备可以被用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，图案形成装置(备选地被称为掩模或中间掩模)可以被用于生成将被形成在IC的各个层上的电路图案。该图案可以被转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或多个裸片的一部分)上。图案的转印通常经由成像到被设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。一般地，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。常规的光刻设备包括所谓的步进器，其中通过将整个图案一次性曝光到目标部分上来辐照每个目标部分；以及所谓的扫描仪，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案同时平行或反平行于该方向同步扫描衬底来辐照每个目标部分。也可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转印到衬底。

持续需要制造具有更小特征的装置，例如集成电路。集成电路和其他微型装置通常使用光学光刻术来制造，但是其他制造技术(诸如压印光刻、电子束光刻和纳米自组装)是已知的。

在制造期间，装置被辐照。确保辐照过程尽可能准确是重要的。使辐照过程尽可能准确的问题之一是确保要辐照的装置处于正确的位置。为了控制装置的位置，可以使用衬底保持器。一般地，在衬底被辐照的同时，衬底将由衬底保持器支撑。当衬底被定位在衬底保持器上时，衬底与衬底保持器之间的摩擦可以防止衬底在衬底保持器的表面上方变平。为了解决该问题，衬底保持器可以被设置有支撑元件，这些支撑元件使衬底与衬底保持器之间的接触面积最小化。在其他情况下，衬底保持器的表面上的支撑元件可以被称为凸节或突出部。支撑元件一般被规则地间隔开(例如以均匀的阵列)并且具有均匀的高度，并且限定了非常平坦的整体支撑表面，衬底可以被定位在该支撑表面上。支撑元件减小了衬底保持器与衬底之间的接触面积，从而减小了摩擦，并允许衬底移动至衬底保持器上的较平坦位置。

支撑元件一般从衬底保持器的表面大体垂直地延伸。在操作中，衬底的背面被支撑在支撑元件上的与衬底保持器的主体表面相距一小段距离处、基本上垂直于投影束的传播方向的位置中。因此，支撑元件的顶部(即支撑表面)而不是衬底保持器的主体表面3限定了衬底的有效支撑表面。

为了避免在将图案化的辐射束投影在衬底上期间的重叠误差，期望衬底顶部表面是平坦的。衬底支撑件的支撑表面的不平整可能导致衬底的顶部表面不均匀。因此，期望避免衬底支撑件的不均匀。

支撑表面的不平整可能由构成支撑元件本身的材料的高度之间的差异引起。当制造了新的衬底保持器时，通常就是这种情况。磨损也可能导致不均匀。在已知的实施例中，衬底支撑件包含衬底台WT(在其他情况下，指的是卡盘)，具有支撑元件的衬底保持器被支撑在该衬底台上。在备选实施例中，衬底台WT和衬底保持器可以被集成在单个单元中。不均匀可能是支撑元件的高度之间或在衬底保持器的背面中或在衬底台WT中的差异的结果。因此，小心地使这些元件齐平。然而，已经发现，当组装或安装衬底台WT和衬底保持器(以及任何其他元件)时，也可能导致不平整。针对其他物品的支撑台或保持器，也可能遇到类似的问题，这些物品必须被支撑在跨束路径的良好限定的平面中，诸如反射图案形成装置或透射图案形成装置。