[发明专利]带保护膜的热敏电阻及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201980054442.5 申请日: 2019-08-21
公开(公告)号: CN112640005B 公开(公告)日: 2023-04-04
发明(设计)人: 米泽岳洋;足立美纪 申请(专利权)人: 三菱综合材料株式会社
主分类号: H01C7/02 分类号: H01C7/02;H01C7/04;H01C17/00;H01C17/02
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 辛雪花;周艳玲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 保护膜 热敏电阻 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种带保护膜的热敏电阻,其特征在于,具有热敏电阻基体、由膜厚在50nm以上且1000nm以下的范围的SiO2膜构成且与所述热敏电阻基体相接而形成的保护膜及电极部,

相较于沿着所述保护膜的膜厚方向存在于内部的碱金属,存在于包括所述热敏电阻基体与所述保护膜的界面的区域的碱金属的浓度高,在包括所述界面的区域,不均匀地分布有碱金属。

2.根据权利要求1所述的带保护膜的热敏电阻,其特征在于,

碱金属的存在比是使用能量色散型X射线光谱分析装置通过与所述界面垂直的方向的线性分析获得的、包括所述界面的区域中的所述碱金属的检测量除以所有金属的检测量而得的,所述碱金属的存在比的最大值为0.03以上,并且将所述最大值除以所述保护膜的碱金属的存在比的平均值而得的值为1.5以上,所述碱金属的检测量与所述所有金属的检测量的单位是原子%。

3.一种带保护膜的热敏电阻的制造方法,其特征在于,所述制造方法为权利要求1或2所述的带保护膜的热敏电阻的制造方法,

所述制造方法具备保护膜形成工序,所述保护膜形成工序通过在包含硅醇盐、碱金属、水、有机溶剂及碱的反应液中浸渍所述热敏电阻基体,并利用所述硅醇盐的水解反应及缩聚反应而在所述热敏电阻基体的表面析出SiO2,将由所述碱金属产生的所述反应液中的碱金属离子吸附在所述热敏电阻基体的表面,由此使所述保护膜成膜。

4.根据权利要求3所述的带保护膜的热敏电阻的制造方法,其特征在于,

具备电极部形成工序,所述电极部形成工序为所述保护膜形成工序的后工序,且通过将金属浆料涂布于所述热敏电阻基体的两个端面并进行烧成,从而形成所述电极部。

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