[发明专利]用于喷洒测量设备的系统和方法

说明书

公开了具有夹具装置的喷洒测量系统的各种实施例，其允许测量一个或多个喷嘴的喷洒输出，并确定喷嘴的喷洒分布型式。

技术领域

本公开总体上涉及一种喷洒测量设备，并且特别地涉及一种用于喷洒测量设备的系统和方法，该系统和方法能够检测批化学处理室内的一个或多个喷嘴的液体捕获水平，以理解喷洒分布形式。

背景技术

用于半导体湿化学处理的批化学处理室需要多个喷嘴，以将化学物均匀地喷洒到在处理室内以阵列形式堆叠的多个晶圆上。一个或多个喷嘴的故障或未正确调整的喷嘴(一个或多个)会导致喷洒分布不均匀，从而阻碍一致或符合规格的批处理过程完成。另外，一旦识别出喷嘴组件中的问题，拆卸批处理室以识别哪个或哪些喷嘴有故障并采取纠正措施可能是困难且耗时的。因此，缺少一种用于简单且准确地监视和测量批化学处理室内的喷洒分布的系统。

正是考虑到这些观察，构思和开发了本公开的各个方面。

附图说明

图1是喷洒测量设备的透视图，该喷洒测量设备布置在转子和批处理室内并且与喷嘴阵列对准；

图2是该喷洒测量设备的透视图，其中该壳体为虚线，透视图示出了用于测量喷洒分布的夹具装置；

图3是喷洒测量设备的端视图，其中移除了近侧端板以示出内部构件；

图4是喷洒测量设备的俯视图，示出了夹具装置的挡板；

图5是喷洒测量设备的仰视图，以虚线示出了壳体，以示出内部构件；

图6是喷洒测量设备的侧视图，以虚线示出了壳体，以示出内部构件；

图7是喷洒测量设备的分解图；

图8是喷洒测量设备的放大分解图，示出了夹具装置；

图9是喷洒测量设备的放大分解图，示出了压力传感器的阵列；

图10是喷洒测量设备的放大分解图，示出了控制器，压力传感器和电池；

图11是用于喷洒测量设备的壳体的底面的放大透视图；

图12是用于喷洒测量设备的壳体的俯视图，示出了壳体的箱体；且

图13是示出由喷洒测量系统测量的多个喷嘴的一种布置的图示。

相应的附图标记表示附图的图中的相应元件。附图中使用的标题不限制权利要求的范围。附图是本发明的一个实施例的示例。

具体实施方式

在一个方面，公开了一种具有夹具装置的喷洒测量设备，其能够测量喷洒输出并确定多个单独的喷嘴的喷洒分布。在另一方面，该喷洒测量设备可操作以测量与各个喷嘴相关联的多个液体捕获通道的液位(liquid levels)，以理解喷洒分布形式。在另外又一方面，喷洒测量设备包括与批系统通信的控制器，其中，控制器使喷洒测量设备能够绕水平轴旋转至批化学处理室内的特定方向，以检查和利用其他分析模型。在另一方面，喷洒测量系统允许验证整个半导体晶圆负载上喷洒的均匀性，以确保在所有半导体晶圆上一致的工艺完成性。在一些实施例中，喷洒测量设备包括夹具装置，该夹具装置具有多个挡板，该挡板布置在与特定晶圆位置相对应的相应狭槽内，这允许在喷洒管理设备的操作期间识别一个或多个故障的喷嘴。参考附图，示出了喷洒测量系统的实施例，并且它们在图1-13中总体上表示为100。