[发明专利]活性气体生成装置在审

专利信息
申请号: 201980058546.3 申请日: 2019-08-22
公开(公告)号: CN112703582A 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 渡边谦资;有田廉 申请(专利权)人: 东芝三菱电机产业系统株式会社
主分类号: H01L21/31 分类号: H01L21/31;C23C16/448;H05H1/24
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 戚宏梅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 活性 气体 生成 装置
【说明书】:

本发明的目的在于提供一种活性气体生成装置,不将放电空间分割为多个、且施加1种交流电压,就能够向外部喷出包含活性气体浓度相互不同的多种局部活性气体的活性气体。在本发明中,高电压侧电极构成部(1A)包括电介质电极(111)及形成在电介质电极(111)的上表面上的金属电极(101H、101L)。电介质电极(111)成为沿着X方向而膜厚连续地变化的构造。即,电介质电极(111)的右端的膜厚被设定为厚度dA1,左端的膜厚被设定为厚度dB1(>dA1),沿着X方向从右端到左端而连续地变厚。

技术领域

本发明涉及一种活性气体生成装置,将高压电介质电极与接地电介质电极平行地设置,对两个电极之间施加高电压,利用产生放电而得到的能量来得到活性气体。

背景技术

在现有的活性气体生成装置中存在如下装置:在陶瓷等的电介质电极中成膜处理出Au膜等的金属电极而作为电极构成部。在这样的装置中,在电极构成部中电介质电极为主,在该处形成的金属电极为从属。

上述活性气体生成装置为如下装置:在比大气压低的压力气氛下通过平行平板方式的电介质阻挡放电来产生半导体制造所需要的活性气体,将所生成的活性气体向处于比本装置减压的环境中的后级装置供给。作为后级的装置,例如可以考虑到成膜处理腔室。

为了能够在上述成膜处理室内进行大型基板的成膜处理,而需要如下的活性气体生成装置:使电介质电极成为大型长方形并设置多个气体喷出孔,从多个气体喷出孔产生活性气体。例如,在专利文献1或者专利文献2中公开有这样的活性气体生成装置。

此外,作为采用了在多个气体喷出孔中使来自各气体喷出孔的活性气体浓度变化的方法的活性气体生成装置,存在专利文献3公开的放电产生器。在该放电产生器中,利用n相变频电源装置对n个小型放电单元分别独立地实施放电控制。其特征在于,该放电产生器所具有的电源装置本身虽然为一个,但通过使交流高电压的相位变化而按照n个小型放电单元的每个使放电状态变化。在上述放电产生器中具有如下特征:能够按照每个气体喷出孔对活性气体浓度赋予浓淡,而电源装置为一个即可。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:国际公开第2018/104988号

专利文献2:国际公开第2017/126007号

专利文献3:国际公开第2016/067380号

发明内容

发明要解决的课题

考虑利用从多个气体喷出孔产生活性气体的现有的活性气体生成装置的情况。在该情况下,活性气体含有从多个气体喷出孔喷出的多种局部活性气体。

此时,根据在该活性气体生成装置的后级安装的成膜处理腔室的构造的不同,产生了在多种局部活性气体之间对活性气体浓度赋予浓淡的必要性。

作为用于在多种局部活性气体之间对活性气体浓度设置变化的最简单的方法,存在以下所述的第1活性气体产生方法。

第1活性气体产生方法为如下方法:准备多个具有至少一个喷出孔的活性气体产生器,将多个活性气体产生器安装在成膜处理腔室的前级,对多个活性气体产生器分别独立地进行放电控制。

在采用该第1活性气体产生方法的情况下,需要准备多个活性气体产生器,并且与多个活性气体产生器对应地准备多个气体供给机构/电源机构等,因此存在无法避免装置设置区域的极大化以及装置的高额化这样的问题。

此外,作为用于在多种局部活性气体之间对活性气体浓度设置变化的第2活性气体产生方法,可以考虑采用专利文献3公开的放电产生器的方法。

然而,在第2活性气体生成方法中,也无法消除另外需要用于使相位变化的变频元件等这样的问题。

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