[发明专利]光源装置及使用其的投影装置、以及荧光激励装置在审
| 申请号： | 201980059845.9 | 申请日： | 2019-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN112740096A | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 长谷山亮;杉田知也 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;G02B3/06;G02B13/00;G02B26/10;H01S5/02253 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 韩丁 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光源 装置 使用 投影 以及 荧光 激励 | ||
【权利要求书】：
1.一种光源装置，具备：
半导体激光器；
光束整形透镜，对从所述半导体激光器出射的光线的纵横比进行调节并使其透射；和
聚光透镜，使透射所述光束整形透镜的所述光线聚光于规定的聚光位置，
所述光束整形透镜是相对于所述光线的慢轴方向具有负的光焦度的柱面透镜。
2.根据权利要求1所述的光源装置，其中，
根据所述柱面透镜与所述聚光透镜的间隔来决定所述聚光位置。
3.根据权利要求1所述的光源装置，其中，
根据所述聚光透镜的聚光特性来决定所述聚光位置。
4.一种投影装置，具备：
权利要求1或者权利要求2所述的光源装置；和
光学扫描镜，被配置于所述规定的聚光位置。
5.一种荧光激励装置，具备：
权利要求1或者权利要求2所述的光源装置；和
荧光体，被配置于所述规定的聚光位置。
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