[发明专利]光源装置及使用其的投影装置、以及荧光激励装置

说明书

在光源装置及使用其的投影装置、以及荧光激励装置中，对从半导体激光器出射的光线的纵横比进行调节后使其聚光于规定的聚光位置，减小聚光位置处的光斑直径。光源装置(100)具备：半导体激光器(10)；光束整形透镜(20)，对从半导体激光器(10)出射的光线(50)的纵横比进行调节；和聚光透镜(30)，使从光束整形透镜(20)出射的光线(50)聚光于聚光位置(P)，光束整形透镜(20)设为相对于入射的光线(50)的慢轴(S)的方向具有负的光焦度的柱面透镜。

技术领域

本公开涉及对从半导体激光器出射的光线的纵横比进行调节后使其聚光于规定的聚光位置的光源装置及使用其的投影装置、以及荧光激励装置。

背景技术

使用现有的半导体激光器的光源需要对椭圆光束的纵横比进行调整的光束整形光学系统和将发散光转换为平行光的准直透镜。光束整形光学系统已知将两个柱面透镜组合的系统、使用在两面配置复曲面的透镜的系统。这些光束整形光学系统对从半导体激光器出射的光线，进行使慢轴的侧的发散角增加、使快轴的侧的发散角减少的光学处理。

另外，作为与本公开相关的在先技术文献信息，例如，已知专利文献1、专利文献2。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2002-323673号公报

专利文献2：日本特开昭52-24542号公报

发明内容

但是，在光束整形光学系统中，在进行了上述的光学处理的情况下，光线的快轴侧通过光学处理从而光束直径被减少。并且，随着该光束直径的减少，存在光源装置的聚光位置处的光斑直径变大的问题。

因此，本公开解决上述问题，其目的在于，减小光源装置的聚光位置处的光斑直径。

本公开的一方式中的光源装置具备：半导体激光器；光束整形透镜，调节从半导体激光器出射的光线的纵横比并进行透射；和聚光透镜，使透射光束整形透镜的光线聚光于聚光位置。光束整形透镜设为相对于入射的光线的慢轴方向具有负的光焦度的柱面透镜。

本公开的一方式中的投影装置具备光源装置、和配置于光源装置的聚光位置的光学扫描镜。光源装置具备：半导体激光器；光束整形透镜，对从半导体激光器出射的光线的纵横比进行调节；和聚光透镜，使从光束整形透镜出射的光线聚光于聚光位置。光束整形透镜设为相对于入射的光线的慢轴方向具有负的光焦度的柱面透镜。

本公开的一方式中的荧光激励装置具备光源装置、和配置于光源装置的聚光位置的荧光体。光源装置具备：半导体激光器；光束整形透镜，对从半导体激光器出射的光线的纵横比进行调节；和聚光透镜，使从光束整形透镜出射的光线聚光于聚光位置。光束整形透镜设为相对于入射的光线的慢轴方向具有负的光焦度的柱面透镜。

通过该结构，本公开能够减小聚光位置处的光斑直径。

附图说明

图1A是示意性地表示从慢轴观察本公开中的光源装置的情况的图。

图1B是示意性地表示从快轴观察本公开中的光源装置的情况的图。

图2是本公开的光源装置中使用的光束整形透镜的立体图。

图3是本公开的光源装置中使用的光束整形透镜的从快轴的正向观察的俯视图。

图4是表示本公开的光源装置中使用的光源与光束整形透镜的配置的立体图。

图5是表示数值孔径与光斑直径的关系的图。

图6A是表示从慢轴观察本公开的光源装置的聚光位置的调整方法的情况的示意图。

图6B是表示从快轴观察本公开的光源装置的聚光位置的调整方法的情况的示意图。