[发明专利]自动分析装置在审
申请号: | 201980059978.6 | 申请日: | 2019-09-20 |
公开(公告)号: | CN112689764A | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 福士雄大;森高通 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | G01N35/10 | 分类号: | G01N35/10 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴秋明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 自动 分析 装置 | ||
1.一种自动分析装置,具备:
取样器,将分注对象分注到使分析对象的样品与试剂发生反应的多个反应容器中;
测定部,对所述反应容器的所述样品与所述试剂的反应液进行测定;
清洗槽,进行所述取样器的清洗;以及
控制装置,对所述取样器、所述测定部以及所述清洗槽的动作进行控制,
该自动分析装置的特征在于,
所述清洗槽具有:
清洗池,存积用于浸渍并清洗所述取样器的清洗水;以及
干燥槽,吸引附着于所述取样器的表面的清洗水,
所述控制装置在将所述取样器浸渍于所述清洗池的清洗水中进行清洗后,在所述干燥槽中吸引所述取样器的表面的清洗水。
2.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,
所述控制装置在所述干燥槽中吸引所述取样器的表面的清洗水的同时,从所述取样器喷出清洗水。
3.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,
所述清洗槽具有使清洗水在所述取样器顺着流动而进行清洗的外洗部,
所述控制装置在所述干燥槽中吸引所述取样器的表面的清洗水后,在所述外洗部进行所述取样器的清洗。
4.根据权利要求3所述的自动分析装置,其特征在于,
所述控制装置在所述外洗部中进行所述取样器的清洗后,在所述干燥槽中吸引所述取样器的表面的清洗水。
5.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,
所述清洗槽的所述清洗池通过用于供给清洗水的泵而将所述清洗水供给到比所述清洗水的液面低的位置。
6.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,
所述控制装置在使所述取样器浸渍到所述清洗池的清洗水中的状态下向所述清洗池供给所述清洗水。
7.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,
所述清洗槽具有多个所述清洗池。
8.根据权利要求3所述的自动分析装置,其特征在于,
所述清洗槽在所述清洗池与所述外洗部之间配置所述干燥槽。
9.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,
所述控制装置在将使所述取样器浸渍到所述清洗池的清洗水中进行清洗的次数实施了预先确定的次数的情况下,对存积于所述清洗池的清洗水进行置换。
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